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1. (WO2019031263) GAS BARRIER LAMINATE
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional    Formular observación

Nº de publicación: WO/2019/031263 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/028077
Fecha de publicación: 14.02.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 26.07.2018
CIP:
B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01)
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
32
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS
B
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS, es decir, HECHOS DE VARIAS CAPAS DE FORMA PLANA O NO PLANA, p. ej. CELULAR O EN NIDO DE ABEJA
9
Productos estratificados compuestos esencialmente por una sustancia particular no cubierta por los grupos B32B11/-B32B29/213
C QUIMICA; METALURGIA
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REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL
C
REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL
14
Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento
06
caracterizado por el material de revestimiento
08
Oxidos
Solicitantes:
東洋紡株式会社 TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区堂島浜二丁目2番8号 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
Personas inventoras:
柏 充裕 KASHIWA, Mitsuhiro; JP
沼田 幸裕 NUMATA, Hiroyuki; JP
伊関 清司 ISEKI, Kiyoshi; JP
Datos de prioridad:
2017-15505910.08.2017JP
Título (EN) GAS BARRIER LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ DOTÉ DE PROPRIÉTÉS BARRIÈRE AU GAZ
(JA) ガスバリア性積層体
Resumen:
(EN) The problem addressed by the present invention is to provide a gas barrier film with excellent acid resistance, transparency, and gas barrier properties. This gas barrier laminate is formed by laminating an inorganic thin-film layer on at least one surface of a polymer substrate. Said inorganic thin-film layer primarily contains Al and Si, and after treatment involving immersion in a 1 mol/L hydrochloric acid aqueous solution for one hour, the ratio of Al content before and after said treatment satisfies the expression (Al content after treatment)/(Al content before treatment) × 100 ≥ 75.
(FR) L'invention a pour objet de fournir un film barrière au gaz doté d'excellentes propriétés de résistance à l'acide, de transparence et de barrière au gaz. Plus précisément, l'invention concerne un stratifié doté de propriétés barrière au gaz tel qu'une couche mince inorganique est stratifiée sur au moins une face d'un matériau de base macromoléculaire. Cette couche mince inorganique contient essentiellement un Al et un Si, et présente un rapport de teneur en Al avant et après traitement satisfaisant la formule (teneur en Al après traitement) / (teneur en Al avant traitement)×100 ≧75, lorsque est effectué un traitement d'immersion pendant une heure dans une solution aqueuse d'acide chlorhydrique à 1mol/L.
(JA) 発明が解決しようとする課題は、耐酸性、透明性、ガスバリア性に優れたガスバリアフィルムを提供することである。 本発明のガスバリア性積層体は、高分子基材の少なくとも一方の面に無機薄膜層を積層した積層体であり、該無機薄膜層は、主としてAlとSiを含み、かつ1mol/Lの塩酸水溶液に1時間浸漬する処理を行った時の、処理前後のAl含有量の比が(処理後のAl含有量)/(処理前のAl含有量)×100 ≧75の式を満たす。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)