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1. (WO2019009316) MULTILAYER FILM STACK
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Nº de publicación: WO/2019/009316 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/025294
Fecha de publicación: 10.01.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 04.07.2018
CIP:
G02B 5/30 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 27/08 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G FISICA
02
OPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS
5
Elementos ópticos distintos de las lentes
30
Elementos polarizantes
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
32
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS
B
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS, es decir, HECHOS DE VARIAS CAPAS DE FORMA PLANA O NO PLANA, p. ej. CELULAR O EN NIDO DE ABEJA
7
Productos estratificados caracterizados por la relación entre las capas, es decir, productos que comprenden esencialmente capas que tienen propiedades físicas diferentes o productos caracterizados por la unión entre las capas
02
en lo que se refiere a las propiedades físicas, p. ej. la dureza
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
32
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS
B
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS, es decir, HECHOS DE VARIAS CAPAS DE FORMA PLANA O NO PLANA, p. ej. CELULAR O EN NIDO DE ABEJA
27
Productos estratificados compuestos esencialmente de resina sintética
06
como único componente o componente principal de una capa adyacente a otra capa de una sustancia específica
08
de una resina sintética de una clase diferente
G FISICA
02
OPTICA
F
DISPOSITIVOS O SISTEMAS CUYO FUNCIONAMIENTO OPTICO SE MODIFICA POR EL CAMBIO DE LAS PROPIEDADES OPTICAS DEL MEDIO QUE CONSTITUYE A ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS Y DESTINADOS AL CONTROL DE LA INTENSIDAD, COLOR, FASE, POLARIZACION O DE LA DIRECCION DE LA LUZ, p. ej. CONMUTACION, APERTURA DE PUERTA, MODULACION O DEMODULACION; TECNICAS NECESARIAS PARA EL FUNCIONAMIENTO DE ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS; CAMBIO DE FRECUENCIA; OPTICA NO LINEAL; ELEMENTOS OPTICOS LOGICOS; CONVERTIDORES OPTICOS ANALOGICO/DIGITALES
1
Dispositivos o sistemas para el control de la intensidad, color, fase, polarización o de la dirección de la luz que llega de una fuente de luz independiente, p. ej. conmutación, apertura de puerta o modulación; Optica no lineal
01
para el control de la intensidad, fase, polarización o del color
13
basados en cristales líquidos, p. ej. celdas de presentación individuales de cristales líquidos
133
Disposiciones relativas a la estructura; Excitación de celdas de cristales líquidos; Disposiciones relativas a los circuitos
1333
Disposiciones relativas a la estructura
1335
Asociación estructural de dispositivos ópticos, p. ej. de polarizadores, reflectores con la celda
Solicitantes:
帝人フィルムソリューション株式会社 TEIJIN FILM SOLUTIONS LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区霞が関三丁目2番1号 2-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000013, JP
Personas inventoras:
廣瀬 周 HIROSE Amane; JP
東條 光峰 TOJO Mitsuo; JP
Mandataria/o:
為山 太郎 TAMEYAMA, Taro; JP
Datos de prioridad:
2017-13370307.07.2017JP
Título (EN) MULTILAYER FILM STACK
(FR) EMPILEMENT DE FILM MULTICOUCHE
(JA) 多層積層フィルム
Resumen:
(EN) A multilayer film stack includes: a multilayered stack structure wherein a first layer containing a first resin and a second layer containing a second resin are alternately stacked; and a thick film layer in contact with the multilayered stack structure. The multilayered stack structure includes a layer thickness profile that has a repeating unit made up of a single first layer and a single second layer having a physical thickness. The layer thickness profile includes a region of monotonically-increasing thickness and a thin layer region. The thin layer region has at least three repeating units. A ratio L2/L1 is 0.85 or less and a ratio A2/L1 is 0.70 or less where L1 represents the maximum thickness of the repeating units in the region of monotonically-increasing thickness, L2 represents the maximum thickness of the repeating units in the thin layer region, and A2 represents an average thickness in the thin layer region. The thin layer region is located on the thicker portion side of the region of monotonically-increasing thickness to come in contact with the thick film layer.
(FR) La présente invention concerne un empilement de film multicouche qui comprend : une structure d’empilement multicouche dans laquelle une première couche contenant une première résine et une deuxième couche contenant une deuxième résine sont empilées en alternance ; et une couche de film épaisse en contact avec la structure d’empilement multicouche. La structure d’empilement multicouche comprend un profil d’épaisseur de couche qui comporte un motif de répétition constitué d’une première couche unique et d’une deuxième couche unique ayant une épaisseur physique. Le profil d’épaisseur de couche comprend une région d’épaisseur augmentant de façon monotone et une région de couche mince. La région de couche mince comporte au moins trois motifs de répétition. Un rapport L2/L1 est de 0,85 ou moins et un rapport A2/L1 est de 0,70 ou moins, où L1 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région d’épaisseur augmentant de façon monotone, L2 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région de couche mince, et A2 représente une épaisseur moyenne dans la région de couche mince. La région de couche mince est située sur le côté de la partie plus épaisse de la région d’épaisseur augmentant de façon monotone de façon à venir en contact avec la couche de film épaisse.
(JA) 第1の樹脂を含む第1層と第2の樹脂を含む第2層とが交互に積層した多層積層構造と、それに接した厚膜層とを有しており、前記多層積層構造は、1つの第1層と1つの第2層とを有する繰返し単位の物理厚みでの層厚みプロファイルを有し、当該層厚みプロファイルは厚み単調増加領域と薄層領域とを有し、前記薄層領域は、少なくとも3つの繰り返し単位を有し、薄層領域における繰り返し単位の最大厚みをL2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比L2/L1が0.85以下であり、且つ、薄層領域の平均厚みをA2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比A2/L1が0.70以下である領域であり、前記薄層領域が厚み単調増加領域の厚みが厚い側にあり、そして厚膜層と接するように存在する、多層積層フィルム。
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Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)