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1. (WO2019003503) PHASE DIFFERENCE FILM, CIRCULARLY POLARIZING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE DIFFERENCE FILM
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Nº de publicación: WO/2019/003503 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/009158
Fecha de publicación: 03.01.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 09.03.2018
CIP:
G02B 5/30 (2006.01) ,B29C 55/06 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,B29L 7/00 (2006.01) ,B29L 11/00 (2006.01)
G FISICA
02
OPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS
5
Elementos ópticos distintos de las lentes
30
Elementos polarizantes
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
29
TRABAJO DE LAS MATERIAS PLASTICAS; TRABAJO DE SUSTANCIAS EN ESTADO PLASTICO EN GENERAL
C
CONFORMACION O UNION DE LAS MATERIAS PLASTICAS; CONFORMACION O UNION DE SUSTANCIAS EN ESTADO PLASTICO EN GENERAL; POSTRATAMIENTO DE PRODUCTOS CONFORMADOS, p. ej. REPARACION
55
Conformación por estirado, p. ej. estirado a través de una matriz; Aparatos a este efecto
02
de placas o de hojas
04
en un solo eje, p. ej. oblicuo
06
paralelo a la dirección de alimentación
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
51
Dispositivos de estado sólido que utilizan materiales orgánicos como parte activa, o que utilizan como parte activa una combinación de materiales orgánicos con otros materiales; Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dichos dispositivos o de sus partes constitutivas
50
especialmente adaptados para la emisión de luz, p. ej. diodos emisores de luz orgánicos (OLED) o dispositivos emisores de luz poliméricos (PLED)
H ELECTRICIDAD
05
TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR
B
CALEFACCION ELECTRICA; ALUMBRADO ELECTRICO NO PREVISTO EN OTRO LUGAR
33
Fuentes de luz electroluminiscente
02
Detalles
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
29
TRABAJO DE LAS MATERIAS PLASTICAS; TRABAJO DE SUSTANCIAS EN ESTADO PLASTICO EN GENERAL
L
SISTEMA DE INDEXACION ASOCIADO A LA SUBCLASE B29C89
7
Objetos planos, p. ej. películas u hojas
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
29
TRABAJO DE LAS MATERIAS PLASTICAS; TRABAJO DE SUSTANCIAS EN ESTADO PLASTICO EN GENERAL
L
SISTEMA DE INDEXACION ASOCIADO A LA SUBCLASE B29C89
11
Elementos ópticos, p. ej. lentes, prismas
Solicitantes:
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
Personas inventoras:
鈴木 暢 SUZUKI Mitsuru; JP
角村 浩 SUMIMURA Hiroshi; JP
高松 秀行 TAKAMATSU Hideyuki; JP
清水 享 SHIMIZU Takashi; JP
柳沼 寛教 YAGINUMA Hironori; JP
友久 寛 TOMOHISA Hiroshi; JP
Mandataria/o:
籾井 孝文 MOMII Takafumi; JP
Datos de prioridad:
2017-12660828.06.2017JP
Título (EN) PHASE DIFFERENCE FILM, CIRCULARLY POLARIZING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE DIFFERENCE FILM
(FR) FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE, PLAQUE À POLARISATION CIRCULAIRE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE
(JA) 位相差フィルム、円偏光板、および位相差フィルムの製造方法
Resumen:
(EN) The present invention provides a phase difference film capable of minimizing a change in a phase difference value under high temperature and high humidity environment. A manufacturing method according to the present invention is used to produce a phase difference film with an in-plane retardation that satisfies the relationship of Re(450) < Re(550). The manufacturing method includes a heat treatment step of heating a stretched film for two minutes or longer at a temperature of 105°C or higher, the stretched film exhibiting a shrinkage of 0.4% or less along the slow axis in the TMA of heating which repeats the cycle of heating and cooling the stretched film between 30°C and Tg - 25°C three times or the stretched film exhibiting a shrinkage of 0.7% or less along the slow axis in the TMA of humidification which changes the environment in order of 25°C/25%RH, 85°C/2%RH, 85°C/85%RH, and 85°C/2%RH.
(FR) La présente invention concerne un film à différence de phase capable de minimiser la modification d'une valeur de différence de phase dans un environnement à haute température et humidité élevée. Un procédé de fabrication selon la présente invention est utilisé pour produire un film à différence de phase présentant un retard dans le plan qui satisfait la relation Re(450) < Re(550). Le procédé de fabrication comprend une étape de traitement thermique consistant à chauffer un film étiré pendant au moins deux minutes à une température d'au moins 105 °C, le film étiré présentant un rétrécissement de 0,4 % ou moins le long de l'axe lent dans l'ATM de chauffage qui répète le cycle de chauffage et de refroidissement du film étiré entre 30 °C et Tg - 25 °C trois fois ou le film étiré présentant un rétrécissement de 0,7 % ou moins le long de l'axe lent dans l'ATM d'humidification qui modifie l'environnement dans l'ordre de 25 °C/25 % RH, 85 °C/2 % RH, 85 °C/85 % RH, et 85 °C/2 % RH.
(JA) 高温高湿環境下での位相差値の変化を抑制し得る位相差フィルムを提供する。本発明の製造方法は、面内位相差がRe(450)<Re(550)の関係を満たす位相差フィルムを得る製造方法であって、30℃からTg-25℃まで昇温して再度30℃に冷却することを3サイクル繰り返す加熱TMA試験において遅相軸方向の収縮率が0.4%以下であるか、または、25℃/25%RH、85℃/2%RH、85℃/85%RH、85℃/2%RHの順に環境を変化させる加湿TMA試験において遅相軸方向の収縮率が0.7%以下である延伸フィルムを、105℃以上の温度で2分間以上加熱する加熱処理工程を含む。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)