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1. (WO2018235549) COMPOSITION, FILM, LENS, SOLID STATE IMAGE SENSOR, AND COMPOUND
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Nº de publicación: WO/2018/235549 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/020669
Fecha de publicación: 27.12.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 30.05.2018
CIP:
C08K 5/3492 (2006.01) ,C07D 251/46 (2006.01) ,C07D 251/70 (2006.01) ,C07D 417/14 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 20/34 (2006.01) ,C08F 265/04 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,G02B 1/04 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
K
UTILIZACION DE SUSTANCIAS INORGANICAS U ORGANICAS NO MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE LA COMPOSICION
5
Utilización de ingredientes orgánicos
16
Compuestos que contienen nitrógeno
34
Compuestos heterocíclicos que tienen nitrógeno en el ciclo
3467
que tienen más de dos átomos de nitrógeno en el ciclo
3477
Ciclos de seis miembros
3492
Triazinas
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
D
COMPUESTOS HETEROCICLICOS
251
Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de triazina-1,3,5
02
no condensados con otros ciclos
12
que tienen tres enlaces dobles entre miembros cíclicos o entre miembros cíclicos y no cíclicos
26
con solamente heteroátomos unidos directamente a los átomos de carbono del ciclo
40
Atomos de nitrógeno
42
Un átomo de nitrógeno
46
con átomos de oxígeno o azufre unidos a otros dos átomos de carbono del ciclo
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
D
COMPUESTOS HETEROCICLICOS
251
Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de triazina-1,3,5
02
no condensados con otros ciclos
12
que tienen tres enlaces dobles entre miembros cíclicos o entre miembros cíclicos y no cíclicos
26
con solamente heteroátomos unidos directamente a los átomos de carbono del ciclo
40
Atomos de nitrógeno
54
Tres átomos de nitrógeno
70
Otras melaminas sustituidas
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
D
COMPUESTOS HETEROCICLICOS
417
Compuestos heterocíclicos que contienen dos o más heterociclos, teniendo al menos un ciclo átomos de nitrógeno y azufre como únicos heteroátomos del ciclo, no previstos por el C07D415/246
14
que contiene tres o más heterociclos
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
2
Procesos de polimerización
44
Polimerización en presencia de aditivos, p. ej. plastificantes, colorantes, cargas
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
2
Procesos de polimerización
46
Polimerización iniciada por energía ondulatoria o radiación corpuscular
48
por luz ultravioleta o visible
50
con agentes sensibilizantes
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
20
Homopolímeros o copolímeros de compuestos que tienen uno o más radicales alifáticos insaturados, teniendo cada uno solamente un enlace doble carbono-carbono, y estando solamente uno terminado por un radical carboxilo o una sal, anhídrido, éster, amida, imida o nitrilo del mismo
02
Acidos monocarboxílicos que tienen menos de diez átomos de carbono; Sus derivados
10
Esteres
34
Esteres que contienen nitrógeno
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
265
Compuestos macromoleculares obtenidos por polimerización de monómeros sobre polímeros de ácidos monocarboxílicos insaturados o sus derivados como los definidos en el grupo C08F20/224
04
sobre polímeros de ésteres
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
J
PRODUCCION; PROCESOS GENERALES PARA FORMAR MEZCLAS; TRATAMIENTO POSTERIOR NO CUBIERTO POR LAS SUBCLASES C08B , C08C , C08F , C08G o C08H285
5
Fabricación de artículos o modelado de materiales que contienen sustancias macromoleculares
18
Fabricación de películas u hojas
G FISICA
02
OPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS
1
Elementos ópticos caracterizados por la sustancia de la que están hechos; Revestimientos ópticos para elementos ópticos
04
hechos de sustancias orgánicas, p. ej. plásticos
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
27
Dispositivos que consisten en una pluralidad de componentes semiconductores o de otros componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común
14
con componentes semiconductores sensibles a los rayos infrarrojos, a la luz, a la radiación electromagnética de ondas más cortas o a la radiación corpuscular, y adaptados para convertir la energía de tales radiaciones en energía eléctrica, o bien como dispositivos de control de la energía eléctrica por tales radiaciones
144
Dispositivos controlados por radiación
146
Estructuras de captadores de imágenes
Solicitantes:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布２丁目２６番３０号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Personas inventoras:
金子　祐士 KANEKO Yushi; JP
田口　貴規 TAGUCHI Yoshinori; JP
瀧下　大貴 TAKISHITA Hirotaka; JP
Mandataria/o:
渡辺　望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東　秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋　史生 MITSUHASHI Fumio; JP
Datos de prioridad:
2017-12049320.06.2017JP
2018-03533028.02.2018JP
Título (EN) COMPOSITION, FILM, LENS, SOLID STATE IMAGE SENSOR, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION, FILM, LENTILLE, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, ET COMPOSÉ
(JA) 組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、化合物
Resumen:
(EN) The present invention provides a composition which is capable of forming a film having a high refractive index and which has excellent conformability to level differences. Moreover, the present invention provides a film obtained using the composition, a lens comprising the film, and a solid state image sensor comprising the film or the lens. The present invention further provides a compound used for the composition. The composition comprises a compound represented by general formula (I) and a solvent, wherein the content of the compound represented by general formula (I) is 30 mass% or more of the total solids in the composition. (A)m-X-(B)n (I)
(FR) L'invention fournit une composition qui permet de former un film présentant un indice de réfraction élevé, et qui se révèle excellente en termes d'adaptation aux différences de niveau. L'invention fournit également un film obtenu à l'aide de ladite composition, une lentille contenant ledit film, et un élément d'imagerie à semi-conducteurs contenant ledit film ou ladite lentille. De plus, l'invention fournit un composé mis en œuvre dans ladite composition. La composition de l'invention contient un composé représenté par la formule générale (I) et un solvant, la teneur en composé représenté par la formule générale (I) est supérieure ou égale à 30% en masse de la teneur en matière solide totale contenue dans la composition. （Ａ）ｍ－Ｘ－（Ｂ）ｎ （Ｉ）
(JA) 本発明は、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供する。また、本発明は、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供する。更に、上記組成物に用いられる化合物を提供する。本発明の組成物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、上記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上である。 （Ａ）ｍ－Ｘ－（Ｂ）ｎ　（Ｉ）
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)