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1. (WO2018228095) DISPLAY DEVICE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
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Nº de publicación: WO/2018/228095 Nº de la solicitud internacional: PCT/CN2018/086284
Fecha de publicación: 20.12.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 10.05.2018
CIP:
H01L 27/12 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
27
Dispositivos que consisten en una pluralidad de componentes semiconductores o de otros componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común
02
incluyendo componentes semiconductores especialmente adaptados para rectificación, amplificación, generación de oscilaciones, conmutación y teniendo al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie.; incluyendo elementos de circuito pasivos integrados con al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie
12
el sustrato es diferente de un cuerpo semiconductor, p. ej. un cuerpo aislante
Solicitantes:
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
Personas inventoras:
肖丽 XIAO, Li; CN
周婷婷 ZHOU, Tingting; CN
陈小川 CHEN, Xiaochuan; CN
杨盛际 YANG, Shengji; CN
刘冬妮 LIU, Dongni; CN
王磊 WANG, Lei; CN
付杰 FU, Jie; CN
卢鹏程 LU, Pengcheng; CN
岳晗 YUE, Han; CN
Mandataria/o:
北京市柳沈律师事务所 LIU, SHEN & ASSOCIATES; 中国北京市 海淀区彩和坊路10号1号楼10层 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080, CN
Datos de prioridad:
201710449847.112.06.2017CN
Título (EN) DISPLAY DEVICE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF D’AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ASSOCIÉ
(ZH) 显示装置及其制备方法
Resumen:
(EN) The present invention provides a display device and a preparation method therefor. The display device comprises: a silicon substrate (13); a plurality of metal data interfaces (12) provided on the silicon substrate (13); and a plurality of conductive patterns (14) respectively covering the upper surfaces of the metal data interfaces (12). The plurality of conductive patterns (14) is formed by conducting semiconductor materials, and the plurality of conductive patterns (14) does not contact with each other. The display device and the preparation method therefor can improve the yield of the display device.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'affichage et un procédé de préparation associé. Le dispositif d'affichage comprend : un substrat de silicium (13) ; une pluralité d'interfaces de données métalliques (12) disposées sur le substrat de silicium (13) ; et une pluralité de motifs conducteurs (14) recouvrant respectivement les surfaces supérieures des interfaces de données métalliques (12). La pluralité de motifs conducteurs (14) est formée par conduction de matériaux semi-conducteurs, et les plusieurs motifs conducteurs (14) ne sont pas en contact. Le dispositif d'affichage et le procédé de préparation associé permettent d'améliorer le rendement du dispositif d'affichage.
(ZH) 本公开提供一种显示装置及其制备方法。该显示装置包括硅基(13)、设置在所述硅基(13)上的多个金属数据接口(12)、以及分别覆盖所述金属数据接口(12)的上表面的多个导电图案(14);所述多个导电图案(14)由半导体材料导体化后形成,且所述多个导电图案(14)彼此不接触。该显示装置及其制备方法可提高显示装置的良率。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Chino (ZH)
Idioma de la solicitud: Chino (ZH)