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1. (WO2018224245) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
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Nº de publicación: WO/2018/224245 Nº de la solicitud internacional: PCT/EP2018/062325
Fecha de publicación: 13.12.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 14.05.2018
CIP:
G02B 7/182 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G FISICA
02
OPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS
7
Monturas, medios de regulación o uniones estancas a la luz para elementos ópticos
18
para prismas; para espejos
182
para espejos
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
20
Exposición; Aparellaje a este efecto
Solicitantes:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Personas inventoras:
WUESTNER, Sebastian; DE
NEFZI, Marwene; DE
PNINI-MITTLER, Boaz; DE
HEMBACHER, Stefan; DE
Mandataria/o:
LORENZ, Markus; DE
Datos de prioridad:
10 2017 209 794.909.06.2017DE
Título (EN) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) DISPOSITIF POUR L’ORIENTATION D’UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(DE) VORRICHTUNG ZUR AUSRICHTUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS
Resumen:
(EN) The invention relates to a device (1) for adjusting an optical element (2), comprising an actuation device (3) having a plurality of actuation units (4) for adjusting the optical element (2), wherein the actuation units (4) are connected to the optical element (2) via securing points (5) and they exert a force on the optical element (2) in order to adjust the optical element (2). A measuring device (6) is provided for determining parasitic forces (FP) and/or parasitic torques (MP) acting on the optical element (2). A compensation device (7) is also provided, comprising at least one compensation unit (8), wherein the at least one compensation unit (8) applies a compensation force (FK) and/or a compensation torque (MK) to the optical element (2), based on data from the measuring device (6), in order to correct the parasitic forces (FP) and/or the parasitic torques (MP).
(FR) L’invention concerne un dispositif (1) pour l‘orientation d’un élément optique (2), comprenant un dispositif d’actionnement (3) qui comprend une pluralité d’unités d’actionnement (4) pour l’orientation de l’élément optique (2), l’unité d’actionnement (4) étant connectée à l’élément optique (2) par l'intermédiaire des points de fixation (5) et appliquant une force sur l’élément optique (2) pour orienter l’élément optique (2). Un dispositif de mesure (6) est prévu pour la détermination des forces parasites (FP) et/ou couples parasites (MP) agissant sur l'élément optique (2). Un dispositif de compensation (7) comprenant au moins une unité de compensation (8) est aussi prévu, l’au moins une unité de compensation (8) appliquant une force de compensation (FK) et/ou un couple de compensation (MK) sur l’élément optique (2) sur la base de données du dispositif de mesure (6), pour corriger les forces parasites (FP) et/ou les couples parasites (MP).
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Ausrichtung eines optischen Elements (2), mit einer Betätigungseinrichtung (3) welche eine Mehrzahl von Betätigungseinheiten (4) zur Ausrichtung des optischen Elements (2) aufweist, wobei die Betätigungseinheit (4) über Befestigungspunkte (5) mit dem optischen Element (2) verbunden sind und eine Kraft auf das optische Element (2) aufbringen um das optische Element (2) auszurichten. Vorgesehen ist eine Messeinrichtung (6) zur Bestimmung von auf das optische Element (2) wirkenden parasitären Kräften (FP) und/oder parasitären Momenten (MP). Ferner ist eine Kompensationseinrichtung (7) mit wenigstens einer Kompensationseinheit (8) vorgesehen, wobei die wenigstens eine Kompensationseinheit (8) auf Basis von Daten der Messeinrichtung (6) eine Kompensationskraft (FK) und/oder ein Kompensationsmoment (MK) auf das optische Element (2) aufbringt, um die parasitären Kräfte (FP) und/oder die parasitären Momente (MP) zu korrigieren.
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Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Alemán (DE)
Idioma de la solicitud: Alemán (DE)