Parte del contenido de esta aplicación no está disponible en este momento.
Si esta situación persiste, contáctenos aComentarios y contacto
1. (WO2018190089) CLEANING WATER SUPPLY DEVICE
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina InternacionalFormular observación

Nº de publicación: WO/2018/190089 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/011100
Fecha de publicación: 18.10.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 20.03.2018
CIP:
H01L 21/304 (2006.01) ,C02F 1/42 (2006.01) ,C02F 1/58 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
04
los dispositivos presentan al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie, p. ej. una unión PN, una región de empobrecimiento, o una región de concentración de portadores de cargas
18
los dispositivos tienen cuerpos semiconductores que incluyen elementos del cuarto grupo de la Tabla Periódica, o de compuestos AIIIBVcon o sin impurezas, p. ej. materiales de dopado
30
Tratamiento de cuerpos semiconductores utilizando procesos o aparatos no cubiertos por los gruposH01L21/20-H01L21/26204
302
para cambiar las características físicas de sus superficies o para cambiar su forma, p. ej. grabado, pulido, recortado
304
Tratamiento mecánico, p. ej. trituración, pulido, corte
C QUIMICA; METALURGIA
02
TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS
F
TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS
1
Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla
42
por intercambio de iones
C QUIMICA; METALURGIA
02
TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS
F
TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS
1
Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla
58
por eliminación de compuestos especificados disueltos
Solicitantes:
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
Personas inventoras:
森田 博志 MORITA, Hiroshi; JP
顔 暢子 GAN, Nobuko; JP
Mandataria/o:
重野 剛 SHIGENO, Tsuyoshi; JP
重野 隆之 SHIGENO, Takayuki; JP
Datos de prioridad:
2017-08062614.04.2017JP
Título (EN) CLEANING WATER SUPPLY DEVICE
(FR) SYSTÈME D'ALIMENTATION EN EAU DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄水供給装置
Resumen:
(EN) This cleaning water supply device is provided with: an ultrapure water line 1 through which a fixed amount of ultrapure water flows; a production unit 2 which adds a fixed amount of a solute into the ultrapure water line to produce a cleaning water; a cleaning water line 3 through which the cleaning water flows; cleaning machines 5A-5N to which the cleaning water is supplied from the cleaning water line 3; a solute removal unit 4 into which surplus cleaning water is introduced from the cleaning water line 3; and a recovery line 6 for returning, to a tank or the like, recovered water from which the solute has been removed.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'alimentation en eau de nettoyage pourvu : d'une conduite d'eau ultra-pure 1 à travers laquelle s'écoule une quantité fixe d'eau ultra-pure ; d'une unité de production 2 qui ajoute une quantité fixe d'un soluté dans la conduite d'eau ultra-pure afin de produire une eau de nettoyage ; d'une conduite d'eau de nettoyage 3 à travers laquelle s'écoule l'eau de nettoyage ; de machines de nettoyage 5A-5N auxquelles l'eau de nettoyage est fournie par la conduite d'eau de nettoyage 3 ; d'une unité d'élimination de soluté 4 dans laquelle de l'eau de nettoyage excédentaire est introduite à partir de la conduite d'eau de nettoyage 3 ; et d'une conduite de récupération 6 servant à renvoyer, vers un réservoir, ou analogue, l'eau récupérée de laquelle a été éliminé le soluté.
(JA) 洗浄水供給装置は、超純水が定量にて流れる超純水ライン1と、該超純水ラインに溶質を定量添加して洗浄水を製造する製造部2と、洗浄水を流すための洗浄水ライン3と、該洗浄水ライン3から洗浄水が供給される洗浄機5A~5Nと、余剰の洗浄水が洗浄水ライン3から導入される溶質除去部4と、溶質が除去された回収水をタンク等へ戻すための回収ライン6を有する。
front page image
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)