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1. (WO2018181713) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina InternacionalFormular observación

Nº de publicación: WO/2018/181713 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/013240
Fecha de publicación: 04.10.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 29.03.2018
CIP:
C01B 33/18 (2006.01) ,C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C QUIMICA; METALURGIA
01
QUIMICA INORGANICA
B
ELEMENTOS NO METALICOS; SUS COMPUESTOS
33
Silicio; Sus compuestos
113
Oxidos de silicio; Sus hidratos
12
Sílice; Sus hidratos, p. ej. ácido silícico lepidoico
18
Preparación de sílice finamente dividida ni bajo forma de sol ni bajo forma de gel; Tratamiento posterior de esta sílice
C QUIMICA; METALURGIA
09
COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR
K
SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE SUSTANCIAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR
3
Sustancias no cubiertas en otro lugar
14
Sustancias antideslizantes; Abrasivos
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
24
TRABAJO CON MUELA; PULIDO
B
MAQUINAS, DISPOSITIVOS O PROCEDIMIENTOS PARA TRABAJAR CON MUELA O PARA PULIR; REAVIVACION O ACONDICIONAMIENTO DE SUPERFICIES ABRASIVAS; ALIMENTACION DE MAQUINAS CON MATERIALES DE RECTIFICAR, PULIR O ALISAR
37
Máquinas o dispositivos de afinado de superficies; Accesorios
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
04
los dispositivos presentan al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie, p. ej. una unión PN, una región de empobrecimiento, o una región de concentración de portadores de cargas
18
los dispositivos tienen cuerpos semiconductores que incluyen elementos del cuarto grupo de la Tabla Periódica, o de compuestos AIIIBVcon o sin impurezas, p. ej. materiales de dopado
30
Tratamiento de cuerpos semiconductores utilizando procesos o aparatos no cubiertos por los gruposH01L21/20-H01L21/26204
302
para cambiar las características físicas de sus superficies o para cambiar su forma, p. ej. grabado, pulido, recortado
304
Tratamiento mecánico, p. ej. trituración, pulido, corte
Solicitantes:
日揮触媒化成株式会社 JGC CATALYSTS AND CHEMICALS LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 580 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa 2120013, JP
Personas inventoras:
江上 美紀 EGAMI Miki; JP
熊澤 光章 KUMAZAWA Mitsuaki; JP
荒金 宏忠 ARAKANE Hirotada; JP
村口 良 MURAGUCHI Ryo; JP
平井 俊晴 HIRAI Toshiharu; JP
Mandataria/o:
▲高▼津 一也 TAKATSU Kazuya; JP
Datos de prioridad:
2017-07150231.03.2017JP
Título (EN) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE DISPERSION LIQUIDE DE PARTICULES DE SILICE
(JA) シリカ粒子分散液の製造方法
Resumen:
(EN) [Problem] To efficiently produce silica particles by inhibiting production of unreacted materials. [Solution] This silica particle liquid dispersion production method comprises simultaneously adding, to liquid I containing silica seed particles, liquid A containing a silane alkoxide and liquid B containing an alkali catalyst and water, to grow the silica seed particles and thereby produce silica particles, wherein the change rate of the molar ratio of the alkali catalyst to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10, and the change rate of the molar ratio of the water to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de produire d’une manière efficace des particules de silice en inhibant la production de matériaux n’ayant pas réagi. La solution selon l’invention porte sur un procédé de production d’une dispersion liquide de particules de silice, consistant à ajouter simultanément, au liquide (I) contenant des particules semences de silice, un liquide (A) contenant un alcoxyde de silane et un liquide (B) contenant un catalyseur alcalin et de l’eau, pour faire croître les particules semences de silice et produire ainsi des particules de silice, où le niveau de changement du rapport molaire du catalyseur alcalin au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10, et le niveau de changement du rapport molaire de l’eau au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10.
(JA) 【課題】未反応物の生成を抑制して、効率よくシリカ粒子を製造すること。 【解決手段】シリカ種粒子を含有する液Iに対して、シランアルコキシドを含有する液Aと、アルカリ触媒及び水を含有する液Bとを同時に添加することにより、シリカ種粒子を成長させてシリカ粒子を製造するシリカ粒子分散液の製造方法であって、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対するアルカリ触媒のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であり、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対する水のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であるシリカ粒子分散液の製造方法である。
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Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)