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1. (WO2018180561) FLUORINATED ETHER COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina InternacionalFormular observación

Nº de publicación: WO/2018/180561 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/010306
Fecha de publicación: 04.10.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 15.03.2018
CIP:
C08G 65/336 (2006.01) ,C08L 71/00 (2006.01)
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
G
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES DISTINTAS A AQUELLAS EN LAS QUE INTERVIENEN SOLAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
65
Compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman un enlace éter en la cadena principal de la macromolécula
02
a partir de éteres cíclicos por rotura del ciclo heterocíclico
32
Polímeros modificados por posterior tratamiento químico
329
con compuestos orgánicos
336
que contiene silicio
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
L
COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES
71
Composiciones de poliéteres obtenidos por reacciones que forman un éter unido en la cadena principal; Composiciones de los derivados de tales polímeros
Solicitantes:
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
Personas inventoras:
高尾 清貴 TAKAO Kiyotaka; JP
Mandataria/o:
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
金 鎭文 KIM Jin-Moon; JP
比企野 健 HIKINO Ken; JP
横井 大一郎 YOKOI Daiichiro; JP
Datos de prioridad:
2017-06094927.03.2017JP
Título (EN) FLUORINATED ETHER COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION D'ÉTHER FLUORÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 含フッ素エーテル組成物およびその製造方法
Resumen:
(EN) Provided are: a fluorinated ether composition which can be formed into a surface layer having excellent durability without deteriorating the transparency of a base; and a method for producing a fluorinated ether composition. A fluorinated ether composition containing a compound (A) having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain and a group represented by formula (I) and a transition metal compound, wherein the ratio of the mass of the transition metal compound to the mass of the compound (A) is 300 to 4,000 ppm in terms of a transition metal content. (I) -SiRnL3-n; wherein L represents a hydroxyl group or a hydrolysable group, R represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, and n represents an integer of 0 to 2.
(FR) L'invention concerne : une composition d'éther fluoré qui peut être formée en une couche de surface présentant une excellente durabilité sans détériorer la transparence d'une base ; et un procédé de production d'une composition d'éther fluoré. L'invention concerne une composition d'éther fluoré contenant un composé (A) ayant une chaîne poly(oxyperfluoroalkylène) et un groupe représenté par la formule (I) et un composé de métal de transition, le rapport de la masse du composé de métal de transition à la masse du composé (A) étant de 300 à 4 000 ppm en termes de teneur du métal de transition. (I) -SiRnL3-n ; dans laquelle L représente un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable, R représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent et n représente un nombre entier de 0 à 2.
(JA) 基材の透明性を損なうことなく、耐久性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル組成物および含フッ素エーテル組成物の製造方法の提供。 ポリ(オキシペルフルオロアルキレン)鎖および下式(I)で表される基を有する化合物(A)と、遷移金属化合物とを含む含フッ素エーテル組成物であって、前記化合物(A)に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で300~4,000ppmである、含フッ素エーテル組成物。-SiR3-n・・・(I);ただし、Lは水酸基または加水分解性基であり、Rは水素原子または1価の炭化水素基であり、nは0~2の整数である。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)