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1. (WO2018125204) PERPENDICULAR SPIN TRANSFER TORQUE MEMORY (PSTTM) DEVICES WITH ENHANCED STABILITY AND METHOD TO FORM SAME
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Nº de publicación: WO/2018/125204 Nº de la solicitud internacional: PCT/US2016/069473
Fecha de publicación: 05.07.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 30.12.2016
CIP:
H01L 43/10 (2006.01) ,H01L 43/02 (2006.01) ,H01L 43/08 (2006.01) ,H01L 43/12 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
43
Dispositivos que utilizan efectos galvanomagnéticos o efectos magnéticos análogos; Procesos o aparatos especialmente adaptados a la fabricación o tratamiento de estos dispositivos o de sus partes constitutivas
10
Selección de materiales
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
43
Dispositivos que utilizan efectos galvanomagnéticos o efectos magnéticos análogos; Procesos o aparatos especialmente adaptados a la fabricación o tratamiento de estos dispositivos o de sus partes constitutivas
02
Detalles
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
43
Dispositivos que utilizan efectos galvanomagnéticos o efectos magnéticos análogos; Procesos o aparatos especialmente adaptados a la fabricación o tratamiento de estos dispositivos o de sus partes constitutivas
08
Resistencias controladas por un campo magnético
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
43
Dispositivos que utilizan efectos galvanomagnéticos o efectos magnéticos análogos; Procesos o aparatos especialmente adaptados a la fabricación o tratamiento de estos dispositivos o de sus partes constitutivas
12
Procesos o aparatos específicos para la fabricación o tratamiento de estos dispositivos o de sus elementos
Solicitantes:
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
Personas inventoras:
RAHMAN, MD Tofizur; US
WIEGAND, Christopher J.; US
OGUZ, Kaan; US
BROCKMAN, Justin S.; US
OUELLETTE, Daniel G.; US
MAERTZ, Brian; US
O'BRIEN, Kevin P.; US
DOCZY, Mark L.; US
DOYLE, Brian S.; US
GOLONZKA, Oleg; US
GHANI, Tahir; US
Mandataria/o:
BRASK, Justin, K.; US
Datos de prioridad:
Título (EN) PERPENDICULAR SPIN TRANSFER TORQUE MEMORY (PSTTM) DEVICES WITH ENHANCED STABILITY AND METHOD TO FORM SAME
(FR) DISPOSITIFS DE MÉMOIRE À COUPLE DE TRANSFERT DE SPIN PERPENDICULAIRE (PSTTM) À STABILITÉ AMÉLIORÉE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CEUX-CI
Resumen:
(EN) A material layer stack for a pSTTM memory device includes a magnetic tunnel junction (MTJ) stack, a oxide layer, a protective layer and a capping layer. The MTJ includes a fixed magnetic layer, a tunnel barrier disposed above the fixed magnetic layer and a free magnetic layer disposed on the tunnel barrier. The oxide layer, which enables an increase in perpendicularity of the pSTTM material layer stack, is disposed on the free magnetic layer. The protective layer is disposed on the oxide layer, and acts as a protective barrier to the oxide from physical sputter damage during subsequent layer deposition. A conductive capping layer with a low oxygen affinity is disposed on the protective layer to reduce iron-oxygen de-hybridization at the interface between the free magnetic layer and the oxide layer. The inherent non-oxygen scavenging nature of the conductive capping layer enhances stability and reduces retention loss in pSTTM devices.
(FR) L'invention concerne un empilement de couches de matériau pour un dispositif de mémoire pSTTM qui comprend un empilement de jonction tunnel magnétique (MTJ), une couche d'oxyde, une couche protectrice et une couche de recouvrement. La MTJ comprend une couche magnétique fixe, une barrière tunnel disposée au-dessus de la couche magnétique fixe et une couche magnétique libre disposée sur la barrière tunnel. La couche d'oxyde, qui permet une augmentation de la perpendicularité de l'empilement de couches de matériau pSTTM, est disposée sur la couche magnétique libre. La couche de protection est disposée sur la couche d'oxyde et sert de barrière de protection à l'oxyde contre des dommages physiques de pulvérisation cathodique pendant un dépôt de couches ultérieur. Une couche de recouvrement conductrice ayant une faible affinité pour l'oxygène est disposée sur la couche de protection pour réduire la déshybridation fer-oxygène au niveau de l'interface entre la couche magnétique libre et la couche d'oxyde. La nature non désoxydante inhérente de la couche de recouvrement conductrice améliore la stabilité et réduit la perte de rétention dans les dispositifs pSTTM.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)