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1. (WO2018055215) CÁMARA PARA DEPÓSITO DE CAPAS ATÓMICAS
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional    Formular observación

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Nº de publicación:    WO/2018/055215    Nº de la solicitud internacional:    PCT/ES2016/070663
Fecha de publicación: 29.03.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 22.09.2016
CIP:
C23C 16/455 (2006.01)
Solicitantes: CIC NANOGUNE [ES/ES]; Tolosa Hiribidea 76 20018 San Sebastián (ES).
COATING TECHNOLOGIES S.L. [ES/ES]; Tolosa Hiribidea 76 20018 San Sebastián (ES)
Personas inventoras: KNEZ, Mato; (ES).
BELTRÁN, Mikel; (ES).
TALAVERA EGUIZÁBAL, David; (ES).
VILA JUÁREZ, Mercedes; (ES)
Mandataria/o: DE ELZABURU MÁRQUEZ, Alberto; (ES)
Datos de prioridad:
Título (EN) ATOMIC LAYER DEPOSITION CHAMBER
(ES) CÁMARA PARA DEPÓSITO DE CAPAS ATÓMICAS
(FR) CHAMBRE DESTINÉE AU DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES
Resumen: front page image
(EN)An atomic layer deposition chamber (1) comprises a chamber body (2) and a chamber lid (3), and additionally comprises at least one separation plate (4) delimiting different interior volumes (5) in the body (2) of the chamber (1), each one of these interior volumes (5) having an inlet (6) and an outlet (7). The invention also relates to an atomic layer deposition equipment comprising said atomic layer deposition chamber (1).
(ES)Cámara (1) para depósito de capas atómicas, que comprende un cuerpo (2) de la cámara y una tapa (3) de la cámara, y que comprende adicionalmente al menos una placa de separación (4) que delimita diferentes volúmenes interiores (5) en el cuerpo (2) de la cámara (1), presentando cada uno de estos volúmenes interiores (5) una entrada (6) y una salida (7). La invención también se refiere a un equipo para depósito de capas atómicas, que comprende dicha cámara (1) para depósito de capas atómicas.
(FR)La présente invention concerne une chambre (1) destinée au dépôt de couches atomiques, comprenant un corps (2) de chambre et un couvercle (3) de chambre, ainsi qu'au moins une plaque de séparation (4) qui délimite différents volumes intérieurs (5) dans le corps (2) de la chambre (1), chacun de ces volumes intérieurs (5) présentant une entrée (6) et une sortie (7). L'invention concerne également un équipement de dépôt de couches atomiques comprenant ladite chambre (1) destinée au dépôt de couches atomiques.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Idioma de publicación: español (ES)
Idioma de la solicitud: español (ES)