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1. (WO2018044821) REDUCING RESIDUAL MONOMER CONTENT IN COPOLYMERS OF STYRENE AND VINYLPYRIDINE
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional    Formular observación

Nº de publicación: WO/2018/044821 Nº de la solicitud internacional: PCT/US2017/048984
Fecha de publicación: 08.03.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 29.08.2017
CIP:
C08F 6/06 (2006.01) ,C08F 6/12 (2006.01) ,C08F 6/10 (2006.01) ,C08L 25/08 (2006.01) ,C08L 25/10 (2006.01)
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
6
Tratamientos posteriores a la polimerización
06
Tratamiento de soluciones de polímero
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
6
Tratamientos posteriores a la polimerización
06
Tratamiento de soluciones de polímero
12
Separación de polímeros de las soluciones
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
6
Tratamientos posteriores a la polimerización
06
Tratamiento de soluciones de polímero
10
Separación de materiales volátiles, p. ej. monómeros, solventes
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
L
COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES
25
Composiciones de homopolímeros o copolímeros de compuestos que tienen uno o más radicales alifáticos insaturados, que tienen cada uno solamente un enlace doble carbono-carbono, y estando al menos uno terminado por un ciclo carbocíclico aromático; Composiciones de derivados de tales polímeros
02
Homopolímeros o copolímeros de hidrocarburos
04
Homopolímeros o copolímeros de estireno
08
Copolímeros de estireno
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
L
COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES
25
Composiciones de homopolímeros o copolímeros de compuestos que tienen uno o más radicales alifáticos insaturados, que tienen cada uno solamente un enlace doble carbono-carbono, y estando al menos uno terminado por un ciclo carbocíclico aromático; Composiciones de derivados de tales polímeros
02
Homopolímeros o copolímeros de hidrocarburos
04
Homopolímeros o copolímeros de estireno
08
Copolímeros de estireno
10
con dienos conjugados
Solicitantes:
NOVUS INTERNATIONAL INC. [US/US]; 20 Research Park Drive St. Charles, Missouri 63304, US
Personas inventoras:
WANG, Xiaojun; US
ARHANCET, Graciela B.; US
EMBSE, Richard Vonder; US
HUME, John; US
Mandataria/o:
BISSEN, Shirley T.; US
CRAWFORD, Bradley; US
DOTY, Kathryn; US
JOHNSON, Charles A.; US
KIRLEY, Morgan J.; US
KREPEL, Allison; US
NEALEY, Tara A.; US
RILEY-VARGAS, Rebecca; US
Datos de prioridad:
62/381,42530.08.2016US
62/443,54406.01.2017US
Título (EN) REDUCING RESIDUAL MONOMER CONTENT IN COPOLYMERS OF STYRENE AND VINYLPYRIDINE
(FR) RÉDUCTION DE LA TENEUR EN MONOMÈRES RÉSIDUELS DANS DES COPOLYMÈRES DE STYRÈNE ET DE VINYLPYRIDINE
Resumen:
(EN) Copolymers of styrene and vinylpyridine having residual monomer levels of less than about 1000 parts per billion and processes for preparing said copolymers.
(FR) L'invention concerne des copolymères de styrène et de vinylpyridine présentant des taux de monomères résiduels inférieurs à environ 1 000 parties par milliard et des procédés de préparation desdits copolymères.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)