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1. (WO2017152551) ARRAY SUBSTRATE AND PREPARATION METHOD THEREFOR, DISPLAY PANEL AND DISPLAY DEVICE
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说明书

发明名称 0001   0002   0003   0004   0005   0006   0007   0008   0009   0010   0011   0012   0013   0014   0015   0016   0017   0018   0019   0020   0021   0022   0023   0024   0025   0026   0027   0028   0029   0030   0031   0032   0033   0034   0035   0036   0037   0038   0039   0040   0041   0042   0043   0044   0045   0046   0047   0048   0049   0050   0051   0052   0053   0054   0055   0056   0057   0058   0059   0060   0061   0062   0063   0064   0065   0066   0067   0068   0069   0070   0071   0072   0073   0074   0075   0076   0077   0078  

权利要求书

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   12   13  

附图

0001   0002   0003   0004   0005   0006   0007   0008  

说明书

发明名称 : 阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置

技术领域

[0001]
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

[0002]
现有的显示面板为了降低功耗,在显示基板的栅绝缘层与钝化层之间设置有机材料层。这种具有有机材料层的显示产品在高温高湿高压条件下进行测试时,水汽容易从显示面板的边缘进入显示区域形成气泡,从而导致显示产品无法通过信赖性测试。具体来说,在高温高湿环境之中,有机膜材料受热容易膨胀,有机膜材料的膨胀导致有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着性变差,从而使得有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙,水汽通过间隙进入显示面板的显示区域形成气泡。
[0003]
发明内容
[0004]
为解决上述问题,本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置,用于解决现有技术中有机材料层的膨胀导致显示面板出现间隙,从而形成气泡的问题。
[0005]
为此,本发明提供一种阵列基板,包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域和封框胶涂布区域,所述衬底基板上设置有薄膜晶体管和有机材料层,所述有机材料层设置在所述显示区域和封框胶涂布区域,位于封框胶涂布区域的有机材料层的远离所述衬底基板的第一表面和/或靠近所述衬底基板的第二表面上设置有导热层。
[0006]
可选的,所述导热层的构成材料包括金属材料。
[0007]
可选的,所述导热层的构成材料包括金、银、铜、铝、钛、铬、钼、镉、镍以及钴之中的一种或多种。
[0008]
可选的,所述导热层为面状金属。
[0009]
可选的,所述导热层包括多个条状金属。
[0010]
可选的,当所述导热层位于所述第二表面时,所述导热层与数据线间隔设置。
[0011]
本发明还提供一种显示面板,包括上述任一所述的阵列基板。
[0012]
本发明还提供一种显示装置,包括上述的显示面板。
[0013]
本发明还提供一种阵列基板的制备方法,包括:
[0014]
在衬底基板上形成薄膜晶体管,所述衬底基板包括显示区域和封框胶涂布区域;
[0015]
在所述显示区域和所述封框胶涂布区域的上方形成有机材料层;以及
[0016]
在位于封框胶涂布区域的有机材料层远离所述衬底基板的第一表面和/或靠近所述衬底基板的第二表面形成导热层。
[0017]
可选的,所述导热层的构成材料包括金属材料。
[0018]
可选的,所述在位于封框胶涂布区域的有机材料层的远离所述衬底基板的第一表面形成导热层的步骤包括:
[0019]
在所述第一表面形成金属薄膜;
[0020]
在所述金属薄膜上涂敷光刻胶,采用掩膜板对所述光刻胶进行曝光显影以形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,所述光刻胶保留区域对应于形成导热层的图形区域,所述光刻胶去除区域对应于形成导热层的图形区域之外的其它区域;以及
[0021]
对所述金属薄膜进行刻蚀以形成导热层。
[0022]
可选的,所述在衬底基板上形成薄膜晶体管的步骤包括:
[0023]
在衬底基板上形成栅极;
[0024]
在所述栅极的上方形成有源层;
[0025]
在所述有源层上形成源极和漏极;
[0026]
所述在衬底基板上形成栅极的步骤之后、所述在所述栅极的上方形成有源层的步骤之前包括:
[0027]
在所述栅极上形成栅绝缘层;
[0028]
所述在所述栅极的上方形成有源层的步骤包括:
[0029]
在所述栅绝缘层上形成有源层;
[0030]
所述在所述显示区域和所述封框胶涂布区域的上方形成有机材料层的步骤包括:
[0031]
在所述源极和所述漏极的上方形成有机材料层;
[0032]
所述在所述源极和所述漏极的上方形成有机材料层的步骤之后包括:
[0033]
在所述有机材料层的上方形成有钝化层。
[0034]
可选的,在位于封框胶涂布区域的有机材料层的靠近所述衬底基板的第二表面上形成导热层时,所述导热层与数据线间隔设置。
[0035]
本发明具有下述有益效果:
[0036]
本发明提供的阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置之中,所述阵列基板在有机材料层的表面设置导热层,所述导热层起到传导热量的作用,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本发明提供的技术方案可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。

附图说明

[0037]
图1为本发明实施例一提供的一种阵列基板的结构示意图;
[0038]
图2为示出了本发明实施例一提供的阵列基板中的晶体管的结构示意图;
[0039]
图3为本发明实施例二提供的一种阵列基板的结构示意图;
[0040]
图4为本发明实施例三提供的一种阵列基板的结构示意图;
[0041]
图5为本发明实施例四提供的一种显示面板的结构示意图;
[0042]
图6为本发明实施例四提供的又一种显示面板的结构示意图;
[0043]
图7为本发明实施例四提供的另一种显示面板的结构示意图;
[0044]
图8为本发明实施例六提供的一种阵列基板的制备方法的流程图。

具体实施方式

[0045]
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置进行详细描述。
[0046]
实施例一
[0047]
图1为本发明实施例一提供的一种阵列基板的结构示意图。如图1所示,所述阵列基板包括衬底基板101,所述衬底基板101包括显示区域和封框胶涂布区域,所述衬底基板101上设置有薄膜晶体管和有机材料层104,所述有机材料层104设置在所述显示区域和封框胶涂布区域,所述薄膜晶体管设置在所述显示区域,位于封框胶涂布区域的有机材料层104的远离所述衬底基板101的第一表面上设置有导热层105。可选的,所述有机材料层104的上方设置有钝化层106,如图1所示,所述有机材料层104设置在栅绝缘层102与所述钝化层106之间。所述阵列基板还可包括数据线103,其设置在有机材料层104的靠近衬底基板101的第二表面上。所述导热层105用于传导热量,以减小有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的阵列基板可以避免在膜层之间出现间隙,使得在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0048]
本实施例中,所述有机材料层104的构成材料可包括纤维素衍生物材料、聚砜材料、聚酰胺材料、聚酰亚胺材料、聚酯材料、聚稀烃材料、含硅聚合物材料以及含氟聚合物材料,所述导热层105的构成材料可包括金属材料。优选的,所述导热层105的构成材料包括金、银、铜、铝、钛、铬、钼、镉、镍以及钴之中的一种或多 种。可选的,所述导热层105为面状金属。本实施例提供的导热层105包括多个条状金属,这样可以节省材料,降低生产成本。
[0049]
图2为示出了本发明实施例一提供的阵列基板中的晶体管的结构示意图。如图2所示,所述薄膜晶体管包括栅极301、有源层302、源极303和漏极304,所述栅极301设置在所述衬底基板101上,所述栅极301上设置有栅绝缘层102,所述有源层302设置在所述栅绝缘层102上,所述源极303和所述漏极304设置在所述有源层302上,所述有机材料层104设置在所述源极303和所述漏极304的上方,所述有机材料层104的上方设置有钝化层106。
[0050]
本实施例提供的阵列基板在有机材料层的远离衬底基板的表面上设置导热层,所述导热层起到传导热量的作用,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的阵列基板可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0051]
实施例二
[0052]
图3为本发明实施例二提供的一种阵列基板的结构示意图。如图3所示,所述阵列基板包括衬底基板101,所述衬底基板101包括显示区域和封框胶涂布区域,所述衬底基板101上设置有薄膜晶体管和有机材料层104,所述有机材料层104设置在所述显示区域和封框胶涂布区域,所述薄膜晶体管设置在所述显示区域,位于封框胶涂布区域的有机材料层104的靠近所述衬底基板101的第二表面上设置有导热层105。可选的,所述有机材料层104的上方设置有钝化层106,如图3所示,所述有机材料层104设置在栅绝缘层102与所述钝化层106之间。所述阵列基板还可包括数据线103,其设置在有机材料层104的靠近衬底基板101的第二表面上。所述导热层105 用于传导热量,以减小有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的阵列基板可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0053]
本实施例中,所述导热层105包括多个条状金属,所述条状金属与数据线103间隔设置,从而可以节省材料,降低生产成本。
[0054]
本实施例中阵列基板的其他结构与实施例一中的相同,具体的,参见图2,所述阵列基板中的所述薄膜晶体管包括栅极301、有源层302、源极303和漏极304,所述栅极301设置在所述衬底基板101上,所述栅极301上设置有栅绝缘层102,所述有源层302设置在所述栅绝缘层102上,所述源极303和所述漏极304设置在所述有源层302上,所述有机材料层104设置在所述源极303和所述漏极304的上方,所述有机材料层104的上方设置有钝化层106。
[0055]
本实施例提供的阵列基板在有机材料层的靠近衬底基板的表面上设置导热层,所述导热层起到传导热量的作用,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的阵列基板可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0056]
实施例三
[0057]
图4为本发明实施例三提供的一种阵列基板的结构示意图。如图4所示,所述阵列基板包括衬底基板101,所述衬底基板101包括显示区域和封框胶涂布区域,所述衬底基板101上设置有薄膜晶体 管和有机材料层104,所述有机材料层104设置在所述显示区域和封框胶涂布区域,所述薄膜晶体管设置在所述显示区域,位于封框胶涂布区域的有机材料层104的远离所述衬底基板101的第一表面和靠近所述衬底基板101的第二表面设置有导热层105。可选的,所述有机材料层104的上方设置有钝化层106,如图4所示,所述有机材料层104设置在栅绝缘层102与所述钝化层106之间。所述阵列基板还可包括数据线103,其设置在有机材料层104的靠近衬底基板101的第二表面上。所述导热层105用于传导热量,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的阵列基板可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0058]
本实施例中,设置在所述第二表面的导热层105包括多个条状金属,所述条状金属与数据线103间隔设置,从而可以节省材料,降低生产成本。本实施例在有机材料层104的上下表面都设置有导热层105,可以更加有效地传导热量,减小有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。
[0059]
本实施例中阵列基板的其他结构与实施例一中的相同,具体的,参见图2,所述阵列基板中的所述薄膜晶体管包括栅极301、有源层302、源极303和漏极304,所述栅极301设置在所述衬底基板101上,所述栅极301上设置有栅绝缘层102,所述有源层302设置在所述栅绝缘层102上,所述源极303和所述漏极304设置在所述有源层302上,所述有机材料层104设置在所述源极303和所述漏极304的上方,所述有机材料层104的上方设置有钝化层106。
[0060]
本实施例提供的阵列基板在有机材料层的靠近衬底基板的表面和远离衬底基板的表面均设置导热层,所述导热层起到传导热量的 作用,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的阵列基板可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0061]
实施例四
[0062]
图5为本发明实施例四提供的一种显示面板的结构示意图,图6为本发明实施例四提供的又一种显示面板的结构示意图,图7为本发明实施例四提供的另一种显示面板的结构示意图。如图5-7所示,所述显示面板包括彩膜基板和实施例一至实施例三提供的阵列基板,所述彩膜基板与所述阵列基板通过封框胶107固定连接。图5所示的显示面板包括实施例一提供的阵列基板,图6所示的显示面板包括实施例二提供的阵列基板,图7所示的显示面板包括实施例三提供的阵列基板。关于阵列基板的具体内容可参照实施例一至实施例三中的描述,此处不再赘述。
[0063]
参见图5-7,所述彩膜基板包括衬底基板201,所述衬底基板201上设置有黑矩阵202,所述黑矩阵202上设置有上配向层203,阵列基板的钝化层106上设置有下配向层108,所述上配向层203与所述下配向层108之间设置有液晶层109。
[0064]
本实施例提供的显示面板之中,所述阵列基板在有机材料层的表面设置导热层,所述导热层起到传导热量的作用,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的显示面板可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之 中的信赖性和使用寿命。
[0065]
实施例五
[0066]
本实施例提供一种显示装置,包括实施例一至实施例三提供的阵列基板,其具体内容可参照实施例一至三的描述,此处不再赘述。
[0067]
本实施例提供的显示装置之中,所述阵列基板在有机材料层的表面设置导热层,所述导热层起到传导热量的作用,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的显示装置可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0068]
实施例六
[0069]
图8为本发明实施例六提供的一种阵列基板的制备方法的流程图。如图8所示,所述阵列基板的制备方法包括:
[0070]
步骤1001、在衬底基板上形成薄膜晶体管,所述衬底基板包括显示区域和封框胶涂布区域。
[0071]
步骤1002、在所述显示区域和所述封框胶涂布区域的上方形成有机材料层。
[0072]
步骤1003、在位于封框胶涂布区域的有机材料层的远离所述衬底基板的第一表面和/或靠近所述衬底基板的第二表面上形成导热层。
[0073]
参见图1,在所述有机材料层104的第一表面形成导热层105,所述第一表面为所述有机材料层104的远离所述衬底基板101的表面。参见图3,在所述有机材料层104的第二表面形成导热层105,所述第二表面为所述有机材料层104的靠近所述衬底基板101的表面,此时,所述导热层与数据线间隔设置。参见图4,在所述有机材 料层104的第一表面和第二表面均形成导热层105。优选的,所述导热层105的构成材料包括金属材料。进一步优选的,所述导热层105的构成材料包括金、银、铜、铝、钛、铬、钼、镉、镍以及钴之中的一种或多种。
[0074]
可选的,所述在位于封框胶涂布区域的有机材料层的远离所述衬底基板的第一表面形成导热层的步骤包括:在所述第一表面形成金属薄膜;在所述金属薄膜上涂敷光刻胶,采用掩膜板对所述光刻胶进行曝光显影以形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,所述光刻胶保留区域对应于形成导热层的图形区域,所述光刻胶去除区域对应于形成导热层的图形区域之外的其它区域;对所述金属薄膜进行刻蚀以形成导热层。
[0075]
本实施例中,可通过一次构图工艺形成所述有机材料层104和所述导热层105。具体的,在所述显示区域和所述封框胶涂布区域的上方形成有机材料薄膜,在所述有机材料薄膜的远离所述衬底基板的第一表面形成金属薄膜,在所述金属薄膜上涂敷光刻胶,采用半色调掩膜板对所述光刻胶进行曝光显影以形成光刻胶完全保留区域、光刻胶半保留区域和光刻胶完全去除区域,所述光刻胶完全保留区域对应于形成导热层的图形区域,所述光刻胶完全去除区域对应于形成有机材料层的图形区域,所述光刻胶半保留区域对应于形成导热层的图形区域和形成有机材料层的图形区域之外的其它区域,对所述有机材料薄膜和金属薄膜进行刻蚀以形成有机材料层104,通过灰化工艺去除光刻胶半保留区域中的光刻胶,对所述金属薄膜进行刻蚀以形成导热层105。利用半色调掩膜板通过一次构图工艺形成有机材料层104和导热层105,减少了工艺流程,提高了生产效率,降低了生产成本。
[0076]
参见图2,所述阵列基板的制备方法可包括:在衬底基板101上形成栅极301,在所述栅极301上形成栅绝缘层102,在所述栅绝缘层102上形成有源层302,在所述有源层302上形成源极303和漏极304,在所述源极303和所述漏极304的上方形成有机材料层104,在所述有机材料层104的上方形成有钝化层106。
[0077]
本实施例提供的阵列基板的制备方法之中,所述阵列基板在有机材料层的表面设置导热层,所述导热层起到传导热量的作用,减小了有机材料的受热膨胀程度,从而避免有机材料的膨胀影响有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间的结着力,最终避免有机材料层与栅绝缘层、钝化层之间产生间隙。本实施例提供的方法可以避免在膜层之间出现间隙,在高温高湿高压条件下进行测试时水汽不能通过间隙进入显示面板的显示区域,从而避免了显示区域出现气泡,提高了有机材料层的耐高温高湿性能,最终提高了显示装置在恶劣环境之中的信赖性和使用寿命。
[0078]
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

权利要求书

[权利要求 1]
一种阵列基板,包括衬底基板,所述衬底基板包括显示区域和封框胶涂布区域,所述衬底基板上设置有薄膜晶体管和有机材料层,所述有机材料层设置在所述显示区域和封框胶涂布区域,其特征在于,位于封框胶涂布区域的有机材料层的远离所述衬底基板的第一表面和/或靠近所述衬底基板的第二表面上设置有导热层。
[权利要求 2]
根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述导热层的构成材料包括金属材料。
[权利要求 3]
根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述导热层的构成材料包括金、银、铜、铝、钛、铬、钼、镉、镍以及钴之中的一种或多种。
[权利要求 4]
根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述导热层为面状金属。
[权利要求 5]
根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述导热层包括多个条状金属。
[权利要求 6]
根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,当所述导热层位于所述第二表面时,所述导热层与数据线间隔设置。
[权利要求 7]
一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-6中任一项所述的阵列基板。
[权利要求 8]
一种显示装置,其特征在于,包括权利要求7所述的显示面板。
[权利要求 9]
一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括: 在衬底基板上形成薄膜晶体管,所述衬底基板包括显示区域和封框胶涂布区域; 在所述显示区域和所述封框胶涂布区域的上方形成有机材料层;以及 在位于封框胶涂布区域的有机材料层的远离所述衬底基板的第一表面和/或靠近所述衬底基板的第二表面上形成导热层。
[权利要求 10]
根据权利要求9所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,所述导热层的构成材料包括金属材料。
[权利要求 11]
根据权利要求10所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,所述在位于封框胶涂布区域的有机材料层的远离所述衬底基板的第一表面形成导热层的步骤包括: 在所述第一表面形成金属薄膜; 在所述金属薄膜上涂敷光刻胶; 采用掩膜板对所述光刻胶进行曝光显影以形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,所述光刻胶保留区域对应于形成导热层的图形区域,所述光刻胶去除区域对应于形成导热层的图形区域之外的其它区域;以及 对所述金属薄膜进行刻蚀以形成导热层。
[权利要求 12]
根据权利要求9所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,所述在衬底基板上形成薄膜晶体管的步骤包括: 在衬底基板上形成栅极; 在所述栅极的上方形成有源层; 在所述有源层上形成源极和漏极; 所述在衬底基板上形成栅极的步骤之后、所述在所述栅极的上方形成有源层的步骤之前,所述方法包括: 在所述栅极上形成栅绝缘层; 所述在所述栅极的上方形成有源层的步骤包括: 在所述栅绝缘层上形成有源层; 所述在所述显示区域和所述封框胶涂布区域的上方形成有机材料层的步骤包括: 在所述源极和所述漏极的上方形成有机材料层; 所述在所述源极和所述漏极的上方形成有机材料层的步骤之后,所述方法包括: 在所述有机材料层的上方形成有钝化层。
[权利要求 13]
根据权利要求9所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,在位于封框胶涂布区域的有机材料层的靠近所述衬底基板的第二表面上形成导热层时,所述导热层与数据线间隔设置。

附图

[ 图 0001]  
[ 图 0002]  
[ 图 0003]  
[ 图 0004]  
[ 图 0005]  
[ 图 0006]  
[ 图 0007]  
[ 图 0008]