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1. (WO2016109061) DETERMINING CRYPTOGRAPHIC OPERATION MASKS FOR IMPROVING RESISTANCE TO EXTERNAL MONITORING ATTACKS
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   

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Nº de publicación:    WO/2016/109061    Nº de la solicitud internacional:    PCT/US2015/062150
Fecha de publicación: 07.07.2016 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 23.11.2015
CIP:
G06F 21/72 (2013.01)
Solicitantes: CRYPTOGRAPHY RESEARCH, INC. [US/US]; c/o Rambus, Inc. 1050 Enterprise Way, Suite 700 Sunnyvale, California 94089 (US)
Personas inventoras: COOPER, Jeremy Samuel; (US)
Mandataria/o: PORTNOVA, Marina; (US)
Datos de prioridad:
62/098,189 30.12.2014 US
Título (EN) DETERMINING CRYPTOGRAPHIC OPERATION MASKS FOR IMPROVING RESISTANCE TO EXTERNAL MONITORING ATTACKS
(FR) DÉTERMINATION DE MASQUES D’OPÉRATION CRYPTOGRAPHIQUE POUR AMÉLIORER LA RÉSISTANCE À DES ATTAQUES DE SURVEILLANCE EXTERNES
Resumen: front page image
(EN)Systems and methods for determining cryptographic operation masks for improving resistance to external monitoring attacks. An example method may comprise: selecting a first input mask value, a first output mask value, and one or more intermediate mask values; based on the first output mask value and the intermediate mask values, calculating a first transformation output mask value comprising two or more portions, wherein concatenation of all portions of the first transformation output mask value produces the first transformation output mask value, and wherein exclusive disjunction of all portions of the first transformation output mask value is equal to the first output mask value; and performing a first masked transformation based on the first transformation output mask value and the first input mask value.
(FR)L’invention concerne des systèmes et des procédés pour déterminer des masques d’opération cryptographique pour améliorer la résistance à des attaques de surveillance externes. Un procédé à titre d’exemple peut consister : à sélectionner une première valeur de masque d’entrée, une première valeur de masque de sortie, et une ou plusieurs valeurs de masque intermédiaires ; sur la base de la première valeur de masque de sortie et des valeurs de masque intermédiaires, à calculer une première valeur de masque de sortie de transformation comprenant au moins deux parties, une concaténation de toutes les parties de la première valeur de masque de sortie de transformation produisant la première valeur de masque de sortie de transformation, et une disjonction exclusive de toutes les parties de la première valeur de masque de sortie de transformation étant égale à la première valeur de masque de sortie ; et à réaliser une première transformation masquée sur la base de la première valeur de masque de sortie de transformation et de la première valeur de masque d’entrée.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Idioma de publicación: inglés (EN)
Idioma de la solicitud: inglés (EN)