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1. (WO2016091314) ELECTROSTATIC BIPRISM
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional

Nº de publicación: WO/2016/091314 Nº de la solicitud internacional: PCT/EP2014/077393
Fecha de publicación: 16.06.2016 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 11.12.2014
Se presentó la solicitud en virtud del Capítulo II: 04.10.2016
CIP:
H01J 37/04 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
J
TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA
37
Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento
02
Detalles
04
Disposiciones de electrodos y partes asociadas para generar o controlar la descarga, p. ej. dispositivo electronóptico, dispositivo ionóptico
Solicitantes:
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH [DE/DE]; Leo-Brandt-Straße 52425 Jülich, DE
COMMISSARIAT À L'ÈNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 17, rue des Martyrs F-38054 Grenoble cedex 9, FR
Personas inventoras:
DUCHAMP, Martial; DE
DUNIN-BORKOWSKI, Rafal Edward; DE
GIRARD, Olivier; FR
COOPER, David; FR
Mandataria/o:
JOSTARNDT PATENTANWALTS-AG; Philipsstraße 8 52068 Aachen, DE
Datos de prioridad:
Título (EN) ELECTROSTATIC BIPRISM
(FR) BIPRISME ÉLECTROSTATIQUE
Resumen:
(EN) The invention relates to an electrostatic biprism comprising a multilayer with a freestanding electrode, being preferably a multi-biprism, the method for preparing said electrostatic biprism and the use of said biprism within an electron beam device. The invention further relates to a microscope, an interferometer or an electron beam device comprising said electrostatic biprism.
(FR) La présente invention concerne un biprisme électrostatique comportant une multicouche avec une électrode autoportante, étant de préférence un double multi-prisme, le procédé pour la préparation dudit biprisme électrostatique et l'utilisation dudit biprisme à l'intérieur d'un dispositif à faisceau d'électrons. L'invention concerne en outre un microscope, un interféromètre ou un dispositif à faisceau d'électrons comprenant ledit biprisme électrostatique.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)