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1. (WO2014090938) CONDUCTIVE ATOMIC FORCE MICROSCOPE TIPS COATED WITH GRAPHENE
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   
TranslationTraducir: Original-->español
Nº de publicación:    WO/2014/090938    Nº de la solicitud internacional:    PCT/EP2013/076362
Fecha de publicación: 19.06.2014 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 12.12.2013
CIP:
G01Q 60/40 (2010.01), G01Q 70/14 (2010.01)
Solicitantes: UNIVERSITAT AUTONOMA DE BARCELONA [ES/ES]; Edifici A Campus universitari s/n E-08193 Bellaterra (Cerdanyola del Vallès) (ES).
PEKING UNIVERSITY [CN/CN]; No.5 Yiheyuan Road Haidian District Beijing 100871 (CN).
DUAN, Huiling [CN/CN]; (CN) (US only).
PORTI PUJAL, Marc [ES/ES]; (ES) (US only).
LANZA MARTINEZ, Mario [ES/CN]; (CN) (US only).
BAYERL, Albin [DE/ES]; (ES) (US only).
NAFRÍA MAQUEDA, Montserrat [ES/ES]; (ES) (US only)
Personas inventoras: DUAN, Huiling; (CN).
PORTI PUJAL, Marc; (ES).
LANZA MARTINEZ, Mario; (CN).
BAYERL, Albin; (ES).
NAFRÍA MAQUEDA, Montserrat; (ES)
Datos de prioridad:
12382504.4 14.12.2012 EP
Título (EN) CONDUCTIVE ATOMIC FORCE MICROSCOPE TIPS COATED WITH GRAPHENE
(FR) POINTES DE MICROSCOPE À FORCE ATOMIQUE CONDUCTEUR (CAFM) REVÊTUES DE GRAPHÈNE
Resumen: front page image
(EN)The present invention relates to coating with a graphene single layer film the conductive surface of an atomic force microscope tip. The process of coating the conductive surface with graphene consists in three steps: first, immobilization of the tip on a Silicon block as a base using a thin film of Poly-methyl methacrylate (PMMA) in between. Then, the solid PMMA/AFM tip/PMMA/Silicon block was used as target substrate on which it is transferred the graphene sheet. Finally, it is removed the different PMMA layers using Acetone. Once PMMA is removed, the graphene is completely attached. The resulting tip is perfectly coated with graphene, and therefore much more resistant to both high currents and frictions than commercially available metal-varnished CAFM tips, and also to much larger lifetimes and more reliable imaging due to a lower tip-sample interaction.
(FR)La présente invention concerne l'application en revêtement d'un film de monocouche de graphène à la surface conductrice d'une pointe de microscope à force atomique (AFM). Le processus de revêtement de la surface conductrice avec du graphène consiste en trois étapes : d'abord, immobilisation de la pointe sur un bloc de silicium en tant que base à l'aide d'un film mince de méthacrylate de polyméthyle (PMMA) entre ceux-ci. Ensuite, le PMMA/pointe AFM/PMMA/bloc de silicium a été utilisé en tant que substrat de cible sur lequel est transférée la feuille de graphène. Finalement, les différentes couches de PMMA sont retirées à l'aide d'acétone. Une fois que le PMMA est retiré, le graphène est complètement fixé. La pointe résultante est parfaitement revêtue de graphène et ainsi beaucoup plus résistante à la fois à des courants et des frottements élevés que des pointes AFM conducteur (CAFM) vernies de métal disponibles commercialement, et également des durées de vie beaucoup plus grandes et une imagerie plus fiable en raison d'une interaction pointe-échantillon plus faible.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Idioma de publicación: inglés (EN)
Idioma de la solicitud: inglés (EN)