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1. (WO2014009583) DISPOSITIVO Y MÉTODO PARA LIMPIAR SUPERFICIES CON HAZ DE GASES EN VACÍO Y ULTRA ALTO VACÍO
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   

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Nº de publicación:    WO/2014/009583    Nº de la solicitud internacional:    PCT/ES2013/070486
Fecha de publicación: 16.01.2014 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 08.07.2013
CIP:
B08B 5/02 (2006.01), B08B 7/00 (2006.01)
Solicitantes: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTÍFICAS (CSIC) [ES/ES]; Serrano, 117 E-28006 Madrid (ES)
Personas inventoras: MARTÍNEZ ORELLANA, Lidia; (ES).
ROMÁN GARCÍA, Elisa Leonor; (ES).
HUTTEL, Yves; (ES)
Mandataria/o: UNGRIA LÓPEZ, Javier; Avenida Ramón y Cajal, 78 E-28043 Madrid (ES)
Datos de prioridad:
P201231078 10.07.2012 ES
Título (EN) DEVICE AND METHOD FOR CLEANING SURFACES USING A BEAM CONSISTING OF GASES UNDER VACUUM OR ULTRA HIGH VACUUM
(ES) DISPOSITIVO Y MÉTODO PARA LIMPIAR SUPERFICIES CON HAZ DE GASES EN VACÍO Y ULTRA ALTO VACÍO
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SURFACES À L'AIDE D'UN FAISCEAU DE GAZ SOUS VIDE ET ULTRA-HAUT VIDE
Resumen: front page image
(EN)The present invention relates to a device and a method for cleaning surfaces using a beam consisting of gases under vacuum or ultra high vacuum. Both the device and method involve bombarding with molecules, not ionized particles. The device comprises: a differential pump system (5) and a chamber (6) which comprises: an inlet (7) for the injection of a non-ionized gas (11); a molecule aggregation zone (8); a nozzle (9) with an outlet (10) that can be connected to the differential pump system and to the vacuum or ultra high vacuum system (2); wherein the gas molecules enter the aggregation zone where they are accelerated by the differential pump system, so that the molecules collide, forming a beam (12) of aggregated molecules that pass through the outlet of the nozzle before striking the surface (3) of the object (4) to be cleaned.
(ES)La presente invención propone un dispositivo y un método para limpiar superficies con haz de gases en vacío y ultra alto vacío. Ambos, dispositivo y método, se basan en bombardeo de moléculas y no de partículas ionizadas. El dispositivo comprende: un sistema de bombeo diferencial (5) y una cámara (6) que comprende: una entrada (7) para la inyección de un gas no ionizado (11); una zona de agregación (8) de moléculas; un embudo (9) que comprende una salida (10) conectable con el sistema de bombeo diferencial y con el sistema de vacío o ultra alto vacío (2); tal que las moléculas del gas entran en la zona de agregación donde son aceleradas por el sistema de bombeo diferencial, de forma que las moléculas chocan entre sí formando un haz de agregados moleculares (12) que atraviesan la salida del embudo hasta chocar con la superficie (3) del objeto a limpiar (4).
(FR)La présente invention concerne un dispositif et un procédé de nettoyage de surface à l'aide d'un faisceau de gaz sous vide et ultra-haut vide. Les deux, le dispositif et le procédé, sont basés sur le bombardement de molécules et non pas de particules ionisées. Le dispositif comprend: un système de pompage différentiel (5) et une chambre (6) qui comporte: une entrée (7) pour l'injection d'un gaz non ionisé (11); une zone d'agrégation (8) de molécules; un entonnoir (9) qui comprend une sortie (10) pouvant être reliée au système de pompage différentiel et au système de vide ou ultra-haut vide (2); de sorte que les molécules du gaz entrent dans la zone d'agrégation où elles sont accélérées par le système de pompage différentiel, de sorte que les molécules s'entrechoquent, formant un faisceau d'agrégats moléculaires (12) qui traversent la sortie de l'entonnoir jusqu'à frapper la surface (3) de l'objet à nettoyer (4).
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Idioma de publicación: español (ES)
Idioma de la solicitud: español (ES)