WIPO logo
Móvil | Deutsch | English | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Colecciones nacionales e internacionales de patentes
World Intellectual Property Organization
Búsqueda
 
Navegar
 
Traducción
 
Opciones
 
Noticias
 
Conexión
 
Ayuda
 
Pretraducción automatizada
1. (WO2011080362) DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA REDUCCIÓN DEL ERROR DE ABBE EN SISTEMAS DE MICROSCOPÍA
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   

TranslationTraducir: Original-->español
Nº de publicación:    WO/2011/080362    Nº de la solicitud internacional:    PCT/ES2009/070645
Fecha de publicación: 07.07.2011 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 31.12.2009
CIP:
G01B 11/14 (2006.01), G01B 11/24 (2006.01), G01B 21/04 (2006.01)
Solicitantes: FUNDACION TEKNIKER [ES/ES]; Avda. Otaola, 20 Eibar E-20600 Guipuzcoa (ES) (Todos excepto los EE.UU.).
CALVO, Roberto [ES/ES]; (ES) (Únicamente los EE.UU.)
Personas inventoras: CALVO, Roberto; (ES)
Mandataria/o: CARPINTERO LOPEZ, Mario; Alcala, 35 E-28014 Madrid (ES)
Datos de prioridad:
Título (EN) DEVICE AND METHOD FOR REDUCING ABBE ERROR IN MICROSCOPY SYSTEMS
(ES) DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA REDUCCIÓN DEL ERROR DE ABBE EN SISTEMAS DE MICROSCOPÍA
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE L'ERREUR D'ABBE DANS DES SYSTÈMES DE MICROSCOPIE
Resumen: front page image
(EN)The invention relates to a device for correcting Abbe error in interferometric surface metrology systems that comprises means for measuring the movement of a lens (21) in relation to a surface (25) comprising at least two movement sensors (22) connected to either side of the lens that are able to measure the relative movement of the lens (21) and the sample (25) at four points and means for calculating the average movement using said measurements at the four points. The device makes it possible to correct Abbe error in a microscopy system.
(ES)La invención se refiere a un dispositivo para la corrección del error de Abbe en sistemas interferométricos de metrología de superficies y que comprende medios para medir el desplazamiento de un objetivo (21) respecto a una superficie (25) compuestos por al menos dos sensores (22) de desplazamiento solidarios al objetivo a ambos lados de éste capaces de medir el desplazamiento relativo del objetivo (21) y la muestra (25) en cuatro puntos y medios para calcular el desplazamiento medio a partir de dichas medidas en los cuatro puntos. Gracias al dispositivo es posible corregir el error de Abbe en un sistema de microscopía.
(FR)L'invention concerne un dispositif pour la correction de l'erreur d'Abbe dans des systèmes interférométriques de métrologie de surfaces et qui comprend des moyens pour mesurer le déplacement d'un objectif (21) par rapport à une surface (25) composés d'au moins deux capteurs (22) de déplacement solidaires de l'objectif situés des deux côtés de celui-ci, pouvant mesurer le déplacement relatif de l'objectif (21) et de l'échantillon (25) au niveau de quatre points et des moyens pour calculer le déplacement moyen à partir de ces mesures au niveau des quatre points. Grâce au dispositif, il est possible de corriger l'erreur d'Abbe dans un système de microscopie.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Idioma de publicación: español (ES)
Idioma de la solicitud: español (ES)