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1. (WO2009095521) COPOLÍMEROS SILILADOS CON GRUPOS SILSESQUIOXANO, SU PREPARACIÓN Y UTILIZACIÓN COMO MATRICES LÁSER DE ALTA FOTOESTABILIDAD
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   

Nº de publicación: WO/2009/095521 Nº de la solicitud internacional: PCT/ES2009/070007
Fecha de publicación: 06.08.2009 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 23.01.2009
CIP:
C08G 77/06 (2006.01) ,C08F 283/12 (2006.01) ,G02B 1/04 (2006.01) ,H01S 3/16 (2006.01)
Solicitantes: COSTELA GONZALEZ, Ángel[ES/ES]; ES (UsOnly)
GARCIA BALLESTEROS, Olga[ES/ES]; ES (UsOnly)
GARCÍA-MORENO, Inmaculada[ES/ES]; ES (UsOnly)
MARTIN TORRES, Virginia[ES/ES]; ES (UsOnly)
SASTRE MUÑOZ, Roberto[ES/ES]; ES (UsOnly)
CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTÍFICAS[ES/ES]; C/ Serrano, 117 28006 Madrid, ES (AllExceptUS)
Personas inventoras: COSTELA GONZALEZ, Ángel; ES
GARCIA BALLESTEROS, Olga; ES
GARCÍA-MORENO, Inmaculada; ES
MARTIN TORRES, Virginia; ES
SASTRE MUÑOZ, Roberto; ES
Mandataria/o: PONS ARIÑO, Ángel; ES
Datos de prioridad:
P20080022029.01.2008ES
Título (EN) SILYLATED COPOLYMERS WITH SILSESQUIOXANE GROUPS, PREPARATION METHOD THEREOF AND USE OF SAME AS HIGHLY PHOTOSTABLE LASER MATRICES
(FR) COPOLYMÈRES SILYLÉS À DES GROUPES SILSESQUIOXANES, LEUR PRÉPARATION ET LEUR UTILISATION COMME MATRICES LASER À PHOTOSTABILITÉ ÉLEVÉE
(ES) COPOLÍMEROS SILILADOS CON GRUPOS SILSESQUIOXANO, SU PREPARACIÓN Y UTILIZACIÓN COMO MATRICES LÁSER DE ALTA FOTOESTABILIDAD
Resumen:
(EN) According to the invention, silsesquioxane groups are incorporated into the copolymer using monomers having a variable number (between one and 12) of polymerisable double bonds per silsesquioxane molecule. The linear cross-linked copolymers obtained have excellent optical properties and high levels of photostability, properties which render same particularly suitable for use as solid matrices for the production of laser light emitters when said matrices are provided during polymerisation with a laser dye soluble in the reaction medium and in the end copolymer obtained. The efficiency values of the resulting laser emitters are higher than those of commercial dyes, both in liquid solution and in other solid matrices. Moreover, said silylated matrices have high photostability even under extreme working conditions.
(FR) Selon l'invention, l'incorporation des groupes silsesquioxanes au copolymère est obtenue à partir de monomères présentant un nombre variable de doubles liaisons polymérisables par des molécules de silsesquioxane, de une à douze. Les copolymères obtenus, linéaires et entrecroisés, présentent d'excellentes propriétés optiques et des photostabilités élevées, propriétés qui les rendent spécialement applicables comme matrices solides pour la fabrication d'émetteurs de lumière laser lorsqu'on leur incorpore au cours de leur processus de polymérisation un colorant laser soluble dans le milieu de réaction et dans le copolymère final obtenu. Les émetteurs laser ainsi obtenus présentent des rendements supérieurs à ceux obtenus avec les colorants du commerce, tant en dissolution dans un liquide que dans d'autres matrices solides, la photostabilité élevée que présentent ces matrices silylées, y compris dans des conditions de travail extrêmes, étant à noter.
(ES) La incorporación de los grupos silsesquioxano al copolímero se lleva a cabo a partir de monómeros con un número variable de dobles enlaces polimerizables por molécula de silsesquioxano, de uno hasta doce. Los copolímeros obtenidos, lineales y entrecruzados, presentan unas excelentes propiedades ópticas y altas fotoestabilidades, propiedades que les hacen especialmente aplicables como matrices sólidas para la fabricación de emisores de luz láser cuando a las mismas se les incorporan durante el proceso de su polimerización un colorante láser soluble en el medio de reacción y en el copolímero final obtenido. Los emisores láser así obtenidos presentan unas eficiencias superiores a las obtenidas con los colorantes comerciales, tanto en disolución líquida, como en otras matrices sólidas, siendo de destacar la alta fotoestabilidad que presentan estas matrices sililadas, incluso bajo condiciones extremas de trabajo.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Español (ES)
Idioma de la solicitud: Español (ES)