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1. (WO2007039656) SlSTEMA Y MÉTODO PARA IMPRESIÓN DE SUBSTRATOS CON TINTAS ACUOSAS CURABLES POR RADIACIÓN DE HAZ ELECTRÓNICO
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   

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Nº de publicación:    WO/2007/039656    Nº de la solicitud internacional:    PCT/ES2006/000547
Fecha de publicación: 12.04.2007 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 29.09.2006
CIP:
B41M 1/18 (2006.01), B41M 7/00 (2006.01), B41F 3/00 (2006.01)
Solicitantes: SERVIFLEX, SL [ES/ES]; Av. Mas Pins, s/n, Pol. Industrial de Girona, E-17457 Riudellots de la Selva (Girona) (ES) (Todos excepto los EE.UU.).
DAVILA CASITAS, Juan [ES/ES]; (ES) (Únicamente los EE.UU.)
Personas inventoras: DAVILA CASITAS, Juan; (ES)
Mandataria/o: TORNER LASALLE, Elisabet; c/Bruc, 21, E-08010 Barcelona (ES)
Datos de prioridad:
P 200502424 06.10.2005 ES
Título (EN) SYSTEM AND METHOD FOR PRINTING ON SUBSTRATES WITH AQUEOUS INKS THAT CAN BE CURED BY MEANS OF ELECTRON BEAM RADIATION
(ES) SlSTEMA Y MÉTODO PARA IMPRESIÓN DE SUBSTRATOS CON TINTAS ACUOSAS CURABLES POR RADIACIÓN DE HAZ ELECTRÓNICO
(FR) SYSTEME ET PROCEDE D'IMPRESSION DE SUBSTRATS AVEC DES ENCRES AQUEUSES DURCISSABLES AU MOYEN D'UN RAYONNEMENT DE FAISCEAU ELECTRONIQUE
Resumen: front page image
(EN)The invention relates to a system and method for printing on substrates with aqueous inks that can be cured by means of electron beam radiation. The inventive system comprises printing stations (3, 3a) for the wet-on-wet printing of different inks (8) on a first substrate (1) with a first surface tension, a roller pressing station (4) for positioning and pressing a second substrate (2) with a second surface tension against the printed face of the first substrate (1), a curing station (5) for irradiating an electron beam onto the first and second stacked substrates (1, 2) and the inks (8) therebetween in order to cure the inks (8), and a separation station (6) for separating the second substrate (2) from the first substrate (1). The cured inks (8) remain affixed to the first substrate (1) or the second substrate (2) depending on the relationship between the first and second surface tensions of said two substrates (1, 2).
(ES)El sistema comprende unas estaciones de impresión (3, 3a) para imprimir húmedo sobre húmedo varias tintas (8) sobre un primer substrato (1 ) con una primera tensión superficial; una estación de presión por rodillos (4) para adosar y presionar un segundo substrato (2) con una segunda tensión superficial sobre Ia cara impresa del primer substrato (1 ); una estación de curado (5) para irradiar un haz electrónico sobre los primer y segundo substratos (1 , 2) superpuestos y con las tintas (8) entre ambos para el curado de las tintas (8); y una estación de separación (6) para separar el segundo substrato (2) del primer substrato (1 ). Las tintas (8) curadas quedan adheridas al primer substrato (1 ) o al segundo substrato (2) en función de una relación entre dichas primera y segunda tensiones superficiales de los primer y segundo substratos (1 , 2).
(FR)L'invention concerne un système d'impression de substrats avec des encres aqueuses durcissables au moyen d'un rayonnement de faisceau électronique qui comprend des stations d'impression (3, 3a) permettant d'imprimer par la technique humide sur humide différentes encres (8) sur un premier substrat (1) avec une première tension superficielle ; une station de pression par rouleaux (4) servant à adosser et comprimer un second substrat (2) avec une seconde tension superficielle sur la face imprimée du premier substrat (1) ; une station de durcissement (5) servant à irradier un faisceau électronique sur le premier et le second substrats (1, 2) superposés avec les encres (8) placées entre les substrats afin de faire durcir ces dernières ; et une station de séparation (6) servant à séparer le second substrat (2) du premier substrat (1). Les encres (8) durcies restent collées au premier substrat (1) ou au second substrat (2) en fonction d'une relation entre la première et la seconde tensions superficielles des premier et second substrats (1, 2).
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Idioma de publicación: español (ES)
Idioma de la solicitud: español (ES)