Parte del contenido de esta aplicación no está disponible en este momento.
Si esta situación persiste, contáctenos aComentarios y contacto
1. (WO2006031455) LITHOGRAPHY TECHNIQUE USING SILICONE MOLDS
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   

Nº de publicación: WO/2006/031455 Nº de la solicitud internacional: PCT/US2005/031150
Fecha de publicación: 23.03.2006 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 31.08.2005
CIP:
G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
004
Materiales fotosensibles
027
Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
004
Materiales fotosensibles
04
Cromatos
Solicitantes:
BAHADUR, Maneesh [US/US]; US (UsOnly)
CHEN, Wei [US/US]; US (UsOnly)
ALBAUGH, John [US/US]; US (UsOnly)
HARKNESS, Brian [CA/US]; US (UsOnly)
TONGE, James [US/US]; US (UsOnly)
DOW CORNING CORPORATION [US/US]; 2200 West Salzburg Road Midland, MI 48686-0994, US (AllExceptUS)
Personas inventoras:
BAHADUR, Maneesh; US
CHEN, Wei; US
ALBAUGH, John; US
HARKNESS, Brian; US
TONGE, James; US
Mandataria/o:
MILCO, Larry, A.; Patent Department-Mail CO1232 2200 West Salzburg Road Midland, MI 48686-0994, US
Datos de prioridad:
60/609,42513.09.2004US
Título (EN) LITHOGRAPHY TECHNIQUE USING SILICONE MOLDS
(FR) TECHNIQUE DE LITHOGRAPHIE DANS LAQUELLE SONT UTILISES DES MOULES EN SILICONE
Resumen:
(EN) A method includes the steps of: A) filling a silicone mold having a patterned surface with a curable (meth)acrylate formulation, B) curing the curable (meth)acrylate formulation to form a patterned feature, C) separating the silicone mold and the patterned feature, optionally D) etching the patterned feature, and optionally E) repeating steps A) to D) reusing the silicone mold. The curable (meth)acrylate formulation contains a fluorofunctional (meth)acrylate, a (meth)acrylate, and a photoinitiator.
(FR) L'invention concerne un procédé consistant : A) à remplir un moule de silicone possédant une surface à motif avec une préparation durcissable de (méth)acrylate ; B) à durcir la préparation durcissable de (méth)acrylate pour former une caractéristique à motif ; C) à séparer le moule de silicone et la caractéristique à motif ; D) à éventuellement graver la caractéristique à motif ; et E) à éventuellement répéter les étapes A) à D) en réutilisant le moule de silicone. La préparation durcissable de (méth)acrylate contient un (méth)acrylate fonctionnel à base de fluor, un (méth)acrylate, ainsi qu'un photoamorceur.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)