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1. WO2002086190 - PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACIÓN DE CAPAS FINAS POROSAS DE ÓXIDOS INORGÁNICOS

N.º de publicación WO/2002/086190
Fecha de publicación 31.10.2002
Nº de la solicitud internacional PCT/ES2002/000193
Fecha de presentación internacional 18.04.2002
CIP
B01D 71/02 2006.01
BTECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
01PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL
DSEPARACION
71Membranas semipermeables destinadas a los procedimientos o a los aparatos de separación, caracterizadas por sus materiales; Procedimientos especialmente adaptados para su fabricación
02Materiales minerales
C23C 16/40 2006.01
CQUIMICA; METALURGIA
23REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL
CREVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL
16Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor
22caracterizado por la deposición de materiales inorgánicos, distintos de los materiales metálicos
30Deposición de compuestos, de mezclas o de soluciones sólidas, p. ej. boruros, carburos, nitruros
40Oxidos
C23C 16/44 2006.01
CQUIMICA; METALURGIA
23REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL
CREVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL
16Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor
44caracterizado por el proceso de revestimiento
C23C 16/50 2006.01
CQUIMICA; METALURGIA
23REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL
CREVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL
16Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor
44caracterizado por el proceso de revestimiento
50por medio de descargas eléctricas
CPC
B01D 71/024
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
71Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
02Inorganic material
024Oxides
C23C 16/401
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
40Oxides
401containing silicon
C23C 16/45523
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45523Pulsed gas flow or change of composition over time
C23C 16/50
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
50using electric discharges
Solicitantes
  • CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTÍFICAS [ES]/[ES] (AllExceptUS)
  • UNIVERSIDAD DE SEVILLA [ES]/[ES] (AllExceptUS)
  • BARRANCO QUERO, Angel [ES]/[ES] (UsOnly)
  • YUBERO VALENCIA, Francisco [ES]/[ES] (UsOnly)
  • ESPINOS MANZORRO, Juan Pedro [ES]/[ES] (UsOnly)
  • RODRÍGUEZ GONZALEZ-ELIPE, Agustín [ES]/[ES] (UsOnly)
  • COTRINO BAUTISTA, José [ES]/[ES] (UsOnly)
Inventores
  • BARRANCO QUERO, Angel
  • YUBERO VALENCIA, Francisco
  • ESPINOS MANZORRO, Juan Pedro
  • RODRÍGUEZ GONZALEZ-ELIPE, Agustín
  • COTRINO BAUTISTA, José
Mandatarios
  • REPRESA SÁNCHEZ, Domingo
Datos de prioridad
P 20010091119.04.2001ES
Idioma de publicación Español (ES)
Idioma de solicitud Español (ES)
Estados designados
Título
(EN) METHOD FOR PREPARING THIN POROUS LAYERS OF INORGANIC OXIDES
(ES) PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACIÓN DE CAPAS FINAS POROSAS DE ÓXIDOS INORGÁNICOS
(FR) PROCEDE DE PREPARATION DE FINES COUCHES POREUSES D'OXYDES INORGANIQUES
Resumen
(EN)
The invention relates to a method for preparing thin layers of inorganic oxides on substrates by means of plasma-assisted vapour phase deposition. The inventive method is different from other common methods in that organic layer deposition steps are included between the successive inorganic oxide deposition steps such that, during the inorganic layer deposition step, the previously-deposited organic part is eliminated by combustion. Said method is suitable for developing selective membranes that are used to separate and purify fluids and to produce and modify sensors for gases and humidity and electronic components.
(ES)
El objeto de la presente invención es un procedimiento para la preparación de capas finas de óxidos inorgánicos sobre substratos mediante la deposición desde fase vapor asistida por plasma que se diferencia de los procedimientos habituales porque se intercalan entre las sucesivas etapas de deposición del óxido inorgánico etapas de deposición de capas orgánicas, de forma que durante la etapa de deposición de la capa inorgánica se produzca la eliminación por combustión de la parte orgánica previamente depositada. El procedimiento es de interés en el desarrollo de membranas selectivas para separación y purificación de fluidos así como para la fabricación y modificación de sensores de gases y de humedad y de componentes electrónicos.
(FR)
L'invention concerne un procédé de préparation de fines couches d'oxydes inorganiques sur des substrats par déposition en phase vapeur assistée par plasma, se différenciant des procédés habituels par des étapes de déposition de couches organiques intercalées entre les étapes successives de déposition de l'oxyde inorganique, de manière qu'au cours de l'étape de déposition de la couche inorganique se produise l'élimination par combustion de la partie organique déposée au préalable. Le procédé de l'invention s'utilise dans la mise au point de membranes sélectives pour la séparation et la purification de fluides ainsi que pour la fabrication et la modification de capteurs de gaz et d'humidité et de composants électroniques.
También publicado como
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