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1. (WO1999054786) ELASTOMERIC MASK AND USE IN FABRICATION OF DEVICES, INLCUDING PIXELATED ELECTROLUMINESCENT DISPLAYS
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional   

Nº de publicación: WO/1999/054786 Nº de la solicitud internacional: PCT/US1999/008623
Fecha de publicación: 28.10.1999 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 20.04.1999
Se presentó la solicitud en virtud del Capítulo II: 28.10.1999
CIP:
B41C 1/14 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/12 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
41
IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS
C
PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION
1
Preparación de la forma o del cliché
14
para la impresión en esténcil o en pantalla de seda
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
05
PULVERIZACION O ATOMIZACION EN GENERAL; APLICACION DE LIQUIDOS U OTRAS MATERIAS FLUIDAS A SUPERFICIES, EN GENERAL
D
PROCEDIMIENTOS PARA APLICAR LIQUIDOS U OTRAS MATERIAS FLUIDAS A SUPERFICIES, EN GENERAL
1
Procedimientos para aplicar líquidos u otras materias fluidas a las superficies
32
utilizando medios para proteger las partes de la superficie que no van a ser cubiertas, p. ej. sirviéndose de "stencils", de repelentes de protección
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
1
Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, por ejemplo, mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello ; Contenedores especialmente adaptados a este efecto ; Su preparación.
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
12
Producción de formas de impresión para serigrafía o de formas de impresión similares, p. ej. clichés de multicopista.
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
27
Dispositivos que consisten en una pluralidad de componentes semiconductores o de otros componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común
28
con componentes que utilizan materiales orgánicos como la parte activa o que utilizan una combinación de materiales orgánicos con otros materiales como la parte activa
32
con componentes especialmente adaptados para la emisión de luz, p. ej. monitores de pantalla plana que utilizan diodos emisores de luz orgánicos
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
51
Dispositivos de estado sólido que utilizan materiales orgánicos como parte activa, o que utilizan como parte activa una combinación de materiales orgánicos con otros materiales; Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dichos dispositivos o de sus partes constitutivas
50
especialmente adaptados para la emisión de luz, p. ej. diodos emisores de luz orgánicos (OLED) o dispositivos emisores de luz poliméricos (PLED)
H ELECTRICIDAD
05
TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR
B
CALEFACCION ELECTRICA; ALUMBRADO ELECTRICO NO PREVISTO EN OTRO LUGAR
33
Fuentes de luz electroluminiscente
10
Aparatos o procedimientos especialmente adaptados a la fabricación de fuentes de luz electroluminiscente
Solicitantes:
JACKMAN, Rebecca, J. [GB/US]; US (UsOnly)
DUFFY, David, C. [GB/US]; US (UsOnly)
WHITESIDES, George, M. [US/US]; US (UsOnly)
VAETH, Kathleen, M. [US/US]; US (UsOnly)
JENSEN, Klavs, F. [US/US]; US (UsOnly)
PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE [US/US]; Holyoke Center Suite 727 1350 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02138, US (AllExceptUS)
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139, US (AllExceptUS)
Personas inventoras:
JACKMAN, Rebecca, J.; US
DUFFY, David, C.; US
WHITESIDES, George, M.; US
VAETH, Kathleen, M.; US
JENSEN, Klavs, F.; US
Mandataria/o:
OYER, Timothy, J.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C. 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210, US
Datos de prioridad:
09/063,74221.04.1998US
Título (EN) ELASTOMERIC MASK AND USE IN FABRICATION OF DEVICES, INLCUDING PIXELATED ELECTROLUMINESCENT DISPLAYS
(FR) MASQUE ELASTOMERE ET SON UTILISATION DANS LA FABRICATION DE DISPOSITIFS, DONT DES AFFICHEURS ELECTROLUMINESCENTS PIXELISES
Resumen:
(EN) An elastomeric mask is provided that allows deposition of a variety of materials through mask openings. The mask seals effectively against substrate surfaces, allowing simple deposition from fluid phase, gas phase, and the like or removal of material using gaseous or liquid etchants. The mask then can be simply peeled from the surface of the substrate leaving the patterned material behind. Multi-layered mask techniques are described in which openings in an upper mask allow selected openings of a lower mask to remain unshielded, while other openings of the lower mask are shielded. A first deposition step, followed by re-orientation of the upper mask to expose a different set of lower mask openings, allows selective deposition of different materials in different openings of the lower mask. Pixelated organic electroluminescent devices are provided via the described technique.
(FR) L'invention concerne un masque élastomère permettant le dépôt d'une variété de matériaux par les ouvertures du masque. Le masque vient en contact étanche efficace contre les surfaces du substrat, ce qui permet le dépôt simple à partir de phase gazeuse ou liquide et similaire ou le retrait de matériaux au moyen d'agents de gravure gazeux ou liquides. Le masque peut ensuite être simplement pelés de la surface du substrat, seul le matériau à motif subsistant. Des techniques de masquage multicouche sont décrites, dans lesquelles des ouvertures présentes dans un masque supérieur permettent aux ouvertures sélectionnées d'un masque inférieur de rester exposées, alors que d'autres ouvertures du masque inférieur reste protégées. Une première étape de dépôt, suivie de la réorientation du masque supérieur pour permettre l'exposition d'un ensemble différent d'ouvertures du masque inférieur, permet le dépôt sélectif de différents matériaux dans différentes ouvertures du masque inférieur. Des dispositifs organiques électroluminescents pixélisés sont produits au moyen de la technique décrite.
Estados designados: CA, JP, US
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)