(EN) A temperature control method comprising: acquiring a temperature TB of a temperature control medium prior to a temperature change during a plurality of processes n in which heat input is generated on a substrate placed on a placement surface of a stage, and a pressure Pn of a heat-transfer gas supplied to an ejection opening of the stage and a temperature TWn of the substrate for each of the processes n; after a temperature change, with the temperature of the temperature control medium being the temperature TB, acquiring, for each of the processes n, a temperature TW'n,max of the substrate when the pressure of the heat-transfer gas is reduced from the pressure Pn, and a temperature TW'n,min of the substrate when the pressure of the heat-transfer gas is reduced from the pressure Pn; adjusting the temperature of the temperature control medium to a temperature TB" satisfying expression (1); and, for each of the processes n, adjusting the pressure of the heat-transfer gas so that the temperature of the substrate becomes the temperature TWn. (1): TB+max(TWn-TW'n,max) ≦ TB" ≦ TB+min(TWn-TW'n,min)
(FR) Procédé de régulation de température consistant : à acquérir une température TB d'un milieu de régulation de température avant un changement de température pendant une pluralité de processus n pendant lesquels une entrée de chaleur est générée sur un substrat placé sur une surface de placement d'un étage, et une pression Pn d'un gaz de transfert de chaleur fournie à une ouverture d'éjection de l'étage et une température TWn du substrat pour chacun des processus n ; après un changement de température, la température du milieu de régulation de température étant la température TB, à acquérir, pour chacun des processus n, une température TW'n,max max du substrat lorsque la pression du gaz de transfert de chaleur est réduite par rapport à la pression Pn, et une température TW'n,min min du substrat lorsque la pression du gaz de transfert de chaleur est réduite par rapport à la pression Pn ; à régler la température du milieu de régulation de température à une température TB" satisfaisant l'expression (1) ; et pour chacun des processus n, à régler la pression du gaz de transfert de chaleur de sorte que la température du substrat devienne la température TWn. (1) : TB+max(TWn-TW'n,max) ≦ TB" ≦ TB+min(TWn-TW'n,min)
(JA) ステージの載置面に載置された基板に入熱が発生する複数のプロセスnを実施する際の温度変化前の温調媒体の温度TBと、プロセスnごとのステージの吐出口へ供給する伝熱ガスの圧力Pn及び基板の温度TWnとを取得し、温度変化後に、温調媒体の温度を温度TBとして、プロセスnごとに、伝熱ガスの圧力を圧力Pnよりも減少させた場合の基板の温度TW'n,maxと、伝熱ガスの圧力を圧力Pnよりも増加させた場合の基板の温度TW'n,minとを取得し、温調媒体の温度を、以下の式(1)を満たす温度TB"に調整し、プロセスnごとに、基板の温度が温度TWnとなるよう伝熱ガスの圧力を調整する。 TB+max(TWn-TW'n,max) ≦ TB" ≦ TB+min(TWn-TW'n,min) ・・・(1)