(EN) A film comprising a set of layers including a first layer, a third layer and a second layer therebetween is described. The first layer comprises and/or is a transparent conductive oxide, TCO, having a formula: A1 B1 O3 — δ1; The third layer comprises and/or is a transparent wide-bandgap semiconductor oxide having a formula: A3 B3 03- δ3; The second layer comprises and/or is an oxide layer having a formula: A1αA31-αB1O3-δ2 or A1αA31-αB3O3-δ2 or A3B1βB31-βO3-δ2 or A1αA31-αB1βB31-βO3-δ2 ; wherein 0 < α, β < 1, -0.5 ≤δ1, δ2, δ3 ≤ 0.5.
(FR) Film comprenant un ensemble de couches comprenant une première couche, une troisième couche et une deuxième couche entre celles-ci. La première couche comprend et/ou est un oxyde conducteur transparent, TCO, présentant une formule : A1 B1 O3 — δ1; la troisième couche comprend et/ou est un oxyde semi-conducteur transparent à large bande interdite présentant une formule : A3 B3 03- δ2 la deuxième couche comprend et/ou est une couche d'oxyde présentant une formule : A1 αA3 1-αB1O3-δ2 ou A1 αA3 1-αB3O3-δ2 orA3B1 βB3 1-βO3-δ2 ou A1 αA3 1-αB1 βB3 1-βO3-δ2 ; , où 0 < α, β < 1, -0,5 ≤δ1, δ2, δ3 ≤ 0,5.