(EN) A composition for cleaning a microelectronic device substrate is provided. The composition is useful for cleaning in-process microelectronic device substrates possessing exposed cobalt, molybdenum, copper, molybdenum, tungsten, and dielectric surfaces. Also provided is a method for cleaning such devices and a kit comprising one or more of the components of the composition.
(FR) L'invention concerne une composition de nettoyage d'un substrat de dispositifs microélectroniques. La composition est utile pour le nettoyage dans un processus de substrats de dispositifs microélectroniques possédant des surfaces exposées de cobalt, de molybdène, de cuivre, de tungstène et diélectriques. L'invention concerne également un procédé de nettoyage de tels dispositifs et un kit comprenant un ou plusieurs des composants de la composition.