(EN) Methods and techniques for deposition of amorphous carbon films on a substrate are provided, In one example, the method includes depositing an amorphous carbon film on an underlayer positioned on a susceptor in a first processing region. The method further includes implanting a dopant or the inert species into the amorphous carbon film in a second processing region. The implant species, energy, dose & temperature in some combination may be used to enhance the hardmask hardness. The method further includes patterning the doped amorphous carbon film. The method further includes etching the underlayer.
(FR) L’invention concerne des procédés et des techniques de dépôt de pellicules de carbone amorphe sur un substrat. Selon un exemple, le procédé consiste à déposer une pellicule de carbone amorphe sur une sous-couche positionnée sur un suscepteur dans une première zone de traitement. Le procédé consiste en outre à implanter un dopant ou une espèce inerte dans la pellicule de carbone amorphe dans une deuxième zone de traitement. L’espèce d’implant, l’énergie, la dose et la température dans une certaine combinaison peuvent servir à renforcer la dureté du masque dur. Le procédé consiste en outre à tracer un motif sur la pellicule de carbone amorphe dopée. Le procédé consiste en outre à graver la sous-couche.