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1. WO2022011071 - TEXTURED REGION OF A SUBSTRATE TO REDUCE SPECULAR REFLECTANCE INCORPORATING SURFACE FEATURES WITH AN ELLIPTICAL PERIMETER OR SEGMENTS THEREOF, AND METHOD OF MAKING THE SAME

Publication Number WO/2022/011071
Publication Date 13.01.2022
International Application No. PCT/US2021/040773
International Filing Date 08.07.2021
IPC
C03C 15/00 2006.1
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
15Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
C03C 21/00 2006.1
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
21Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals into the surface
G03F 7/00 2006.1
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
Applicants
  • CORNING INCORPORATED [US]/[US]
Inventors
  • FENG, Jiangwei
  • ISAAC, Corinne Elizabeth
  • KOCH III, Karl William
  • LI, Shenping
  • SENARATNE, Wageesha
  • WOOD, William Allen
Agents
  • TUCKER, William J.
Priority Data
63/049,84309.07.2020US
Publication Language English (en)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) TEXTURED REGION OF A SUBSTRATE TO REDUCE SPECULAR REFLECTANCE INCORPORATING SURFACE FEATURES WITH AN ELLIPTICAL PERIMETER OR SEGMENTS THEREOF, AND METHOD OF MAKING THE SAME
(FR) RÉGION TEXTURÉE D'UN SUBSTRAT POUR RÉDUIRE LA RÉFLEXION SPÉCULAIRE INCORPORANT DES CARACTÉRISTIQUES DE SURFACE AVEC UN PÉRIMÈTRE ELLIPTIQUE OU DES SEGMENTS DE CELLE-CI, ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract
(EN) A substrate for a display article includes: a primary surface; a textured region on at least a portion of the primary surface, the textured region comprising surface features that reflect a random distribution, each of the surface features comprising a perimeter that is parallel to a base-plane extending through a thickness of the substrate below the textured region, wherein the perimeter is elliptical. The textured region can further include (i) one or more higher surfaces residing at a higher mean elevation from the base-plane and (ii) one or more lower surfaces residing at a lower mean elevation from the base-plane that is closer to the base-plane than the higher mean elevation. The higher mean elevation can differ from the lower mean elevation by a distance within a range of 0.05 µm to 0.70 µm.
(FR) Un substrat pour un article d'affichage selon la présente invention comprend : une surface primaire ; une région texturée sur au moins une partie de la surface primaire, la région texturée comprenant des caractéristiques de surface qui reflètent une distribution aléatoire, chacune des caractéristiques de surface comprenant un périmètre qui est parallèle à un plan de base s'étendant à travers une épaisseur du substrat au-dessous de la région texturée, le périmètre étant elliptique. La région texturée peut en outre comprendre (i) une ou plusieurs surfaces supérieures se trouvant à une élévation moyenne supérieure à partir du plan de base et (ii) une ou plusieurs surfaces inférieures se trouvant à une élévation moyenne inférieure à partir du plan de base qui est plus proche du plan de base que la hauteur moyenne supérieure. L'élévation moyenne supérieure peut différer de l'élévation moyenne inférieure d'une distance dans une plage de 0,05 µm à 0,70 µm.
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