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1. WO2022010875 - PROCESS CONTROL FOR ION ENERGY DELIVERY USING MULTIPLE GENERATORS AND PHASE CONTROL

Publication Number WO/2022/010875
Publication Date 13.01.2022
International Application No. PCT/US2021/040480
International Filing Date 06.07.2021
IPC
H01J 37/32 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes
H01L 21/67 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
Applicants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US]/[US]
Inventors
  • BHOWMICK, Ranadeep
  • KOZAKEVICH, Felix
  • MARAKHTANOV, Alexei
  • HOLLAND, John
  • HUDSON, Eric
Agents
  • LEE, David, F.
  • PENILLA, Albert, S.
Priority Data
63/049,53208.07.2020US
Publication Language English (en)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) PROCESS CONTROL FOR ION ENERGY DELIVERY USING MULTIPLE GENERATORS AND PHASE CONTROL
(FR) CONTRÔLE DE PROCESSUS POUR LIVRAISON D’ÉNERGIE D’IONS AU MOYEN DE PLUSIEURS GÉNÉRATEURS ET CONTRÔLE DE PHASE
Abstract
(EN) A method for applying RF power in a plasma process chamber is provided, including: generating a first RF signal; generating a second RF signal; generating a third RF signal; wherein the first, second, and third RF signals are generated at different frequencies; combining the first, second and third RF signals to generate a combined RF signal, wherein a wave shape of the combined RF signal is configured to approximate a sloped square wave shape; applying the combined RF signal to a chuck in the plasma process chamber.
(FR) L’invention concerne un procédé destiné à appliquer une puissance à RF dans une chambre de traitement par plasma, consistant : à générer un premier signal à RF ; à générer un deuxième signal à RF ; à générer un troisième signal à RF ; les premier, deuxième, et troisième signaux à RF étant générés à des fréquences différentes ; à combiner les premier, deuxième, et troisième signaux à RF pour générer un signal à RF combiné, une forme d’onde du signal à RF combiné étant configurée pour approcher une forme d’onde carrée inclinée ; à appliquer le signal à RF combiné à un mandrin dans la chambre de traitement par plasma.
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