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1. WO2022010752 - CHAMBER MATCHING AND CALIBRATION

Publication Number WO/2022/010752
Publication Date 13.01.2022
International Application No. PCT/US2021/040214
International Filing Date 01.07.2021
IPC
H01L 21/67 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
G06N 20/00 2019.1
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
NCOMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS
20Machine learning
Applicants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US]/[US]
Inventors
  • LU, Xuesong
  • LEI, Yu
  • PHATAK, Anup
  • LAM, Hyman W.H.
  • JIANG, Chong
  • DELANEY, Malcolm Emil
  • HU, Yufei
Agents
  • NOEL, Samuel J.
  • PORTNOVA, Marina
  • KIMES, Benjamin A.
Priority Data
16/921,74106.07.2020US
Publication Language English (en)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) CHAMBER MATCHING AND CALIBRATION
(FR) ADAPTATION ET ÉTALONNAGE DE CHAMBRE
Abstract
(EN) A method includes receiving a plurality of sets of sensor data associated with a processing chamber of a substrate processing system. Each of the plurality of sets of sensor data comprises a corresponding sensor value of the processing chamber mapped to a corresponding spacing value of the processing chamber. The method further includes providing the plurality of sets of sensor data as input to a trained machine learning model. The method further includes obtaining, from the trained machine learning model, one or more outputs indicative of a health of the processing chamber. The method further includes causing, based on the one or more outputs, performance of one or more corrective actions associated with the processing chamber.
(FR) La présente invention concerne un procédé qui consiste à recevoir une pluralité d'ensembles de données de capteur associées à une chambre de traitement d'un système de traitement de substrat. Chaque ensemble de la pluralité d'ensembles de données de capteur comprend une valeur de capteur correspondante de la chambre de traitement adaptée à une valeur d'espacement correspondante de la chambre de traitement. Le procédé consiste en outre à fournir la pluralité d'ensembles de données de capteur en tant qu'entrée dans un modèle d'apprentissage automatique entraîné. Le procédé consiste en outre à obtenir, à partir du modèle d'apprentissage automatique entraîné, une ou plusieurs sorties indiquant un état de santé de la chambre de traitement. Le procédé consiste en outre à provoquer, sur la base de la ou des sorties, les performances d'une ou plusieurs actions correctives associées à la chambre de traitement.
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