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1. WO2022010661 - ADJUSTABLE GEOMETRY TRIM COIL

Publication Number WO/2022/010661
Publication Date 13.01.2022
International Application No. PCT/US2021/038980
International Filing Date 24.06.2021
IPC
H01J 37/32 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes
Applicants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US]/[US]
Inventors
  • BAILEY, III, Andrew D.
Agents
  • SCHEER, Bradley W.
  • ARORA, Suneel, USPTO Reg. No. 42,267
  • BEEKMAN, Marvin, L., USPTO Reg. No. 38,377
  • BIANCHI, Timothy E., USPTO Reg. No. 39,610
  • BLACK, David W., USPTO Reg. No. 42,331
  • LANG, Roger, USPTO Reg., No. 58,829
  • PERDOK, Monique M., USPTO Reg. No. 42,989
Priority Data
63/049,92409.07.2020US
Publication Language English (en)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) ADJUSTABLE GEOMETRY TRIM COIL
(FR) BOBINE D'AJUSTEMENT À GÉOMÉTRIE RÉGLABLE
Abstract
(EN) Methods, systems, apparatuses, and computer programs are presented for controlling etch rate and plasma uniformity using magnetic fields. A substrate processing apparatus includes a vacuum chamber including a processing zone for processing a substrate. The apparatus further includes a magnetic field sensor configured to detect a signal representing a residual magnetic field associated with the vacuum chamber. At least one magnetic field source is configured to generate one or more supplemental magnetic fields through the processing zone of the vacuum chamber. A magnetic field controller is coupled to the magnetic field sensor and the at least one magnetic field source. The magnetic field controller is configured to adjust at least one characteristic of the one or more supplemental magnetic fields, causing the one or more supplemental magnetic fields to reduce the residual magnetic field to a pre-determined value.
(FR) L'invention concerne des procédés, des systèmes, des appareils et des programmes informatiques permettant de réguler la vitesse de gravure et l'uniformité du plasma à l'aide de champs magnétiques. Un appareil de traitement de substrat comprend une chambre à vide ayant une zone de traitement destinée au traitement d'un substrat. L'appareil comprend en outre un capteur de champ magnétique conçu pour détecter un signal représentant un champ magnétique résiduel associé à la chambre à vide. Au moins une source de champ magnétique est conçue pour produire un ou plusieurs champs magnétiques supplémentaires à travers la zone de traitement de la chambre à vide. Un régulateur de champ magnétique est couplé au capteur de champ magnétique et à la source ou aux sources de champ magnétique. Le régulateur de champ magnétique est conçu pour régler au moins une caractéristique du ou des champs magnétiques supplémentaires, amenant le ou les champs magnétiques supplémentaires à réduire le champ magnétique résiduel à une valeur prédéfinie.
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