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1. WO2022009402 - SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Publication Number WO/2022/009402
Publication Date 13.01.2022
International Application No. PCT/JP2020/026914
International Filing Date 09.07.2020
IPC
H01L 21/304 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
04the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer, carrier concentration layer
18the devices having semiconductor bodies comprising elements of group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20-H01L21/26142
302to change the physical characteristics of their surfaces, or to change their shape, e.g. etching, polishing, cutting
304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
Applicants
  • 東邦化成株式会社 TOHO KASEI CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventors
  • 出口 泰紀 DEGUCHI, Yasunori
Agents
  • 山尾 憲人 YAMAO, Norihito
  • 岡部 博史 OKABE, Hiroshi
Priority Data
Publication Language Japanese (ja)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
Abstract
(EN) A substrate processing apparatus 1 comprising a chemical module 7 that has a reagent solution tank 32 for treating a substrate 4 held by a carrier 2 with a reagent solution, and a washing tank 34 for washing the substrate 4 held by the carrier 2, wherein: the chemical module 7 comprises a first conveyance unit 11 for conveying the carrier 2 in a first direction in which the reagent solution tank 32 and the washing tank 34 are arrayed, a vertical conveyance unit 13 for conveying the carrier 2 in the vertical direction, and a second conveyance unit 48 for conveying the carrier 2 in a second direction; the first conveyance unit 11, the second conveyance unit 48, and the vertical conveyance unit 13 are respectively driven by a first actuator 12, a second actuator 41 and a vertical actuator 14; and the first actuator 12, the second actuator 41, and the vertical actuator 14 are separated from the reagent solution tank 32 and the washing tank 34.
(FR) Le dispositif de traitement de substrat (1) de l'invention est équipé d'un module chimique (7) qui possède un réservoir de liquide chimique (32) dans lequel un substrat (4) maintenu sur un support (2) est traité par un liquide chimique, et un réservoir de nettoyage (34) dans lequel le substrat (4) maintenu sur le support (2) est nettoyé. Le module chimique (7) est équipé : d'une première partie convoi (11) destinée à convoyer le support (2) dans une première direction d'arrangement du réservoir de liquide chimique (32) et du réservoir de nettoyage (34) ; d'une partie convoi vertical (13) destinée à convoyer le support (2) dans une direction verticale ; et d'une seconde partie convoi (48) destinée à convoyer le support (2) dans une seconde direction. La première partie convoi (11), la seconde partie convoi (48) et la partie convoi vertical (13) sont respectivement entraînées par un premier actionneur (12), un second actionneur (41) et un actionneur vertical (14). Le premier actionneur (12), le second actionneur (41) et l'actionneur vertical (14) sont séparés du réservoir de liquide chimique (32) et du réservoir de nettoyage (34).
(JA) 基板処理装置1は、キャリア2に保持された基板4を薬液で処理する薬液槽32、および、キャリア2に保持された基板4を洗浄する洗浄槽34を有するケミカルモジュール7を備え、ケミカルモジュール7は、薬液槽32および洗浄槽34が配列される第1方向にキャリア2を搬送する第1搬送部11と、上下方向にキャリア2を搬送する上下搬送部13と、第2方向にキャリア2を搬送する第2搬送部48とを備え、第1搬送部11、第2搬送部48および上下搬送部13は、それぞれ、第1アクチュエータ12、第2アクチュエータ41および上下アクチュエータ14によって駆動され、第1アクチュエータ12、第2アクチュエータ41および上下アクチュエータ14は、薬液槽32および洗浄槽34から隔離されている。
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