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1. WO2022009357 - PATTERN MATCHING DEVICE, PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MATCHING PROGRAM

Publication Number WO/2022/009357
Publication Date 13.01.2022
International Application No. PCT/JP2020/026773
International Filing Date 09.07.2020
IPC
H01J 37/22 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
22Optical or photographic arrangements associated with the tube
Applicants
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
Inventors
  • 李 良 LI Liang
  • 長友 渉 NAGATOMO Wataru
  • 安部 雄一 ABE Yuichi
Agents
  • 特許業務法人平木国際特許事務所 HIRAKI & ASSOCIATES
Priority Data
Publication Language Japanese (ja)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) PATTERN MATCHING DEVICE, PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MATCHING PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE MISE EN CORRESPONDANCE DE FORMES, SYSTÈME DE MESURE DE FORMES ET PROGRAMME DE MISE EN CORRESPONDANCE DE FORMES
(JA) パターンマッチング装置、パターン測定システム、パターンマッチングプログラム
Abstract
(EN) The present disclosure proposes a pattern matching device capable of achieving matching processing that is characterized by involving a learning function even for a semiconductor pattern including a repetitive pattern, in particular. The pattern matching device pertaining to the present disclosure is provided with a learning unit for estimating a first correlation image having, as pixel values thereof, numerical values representing a correlation between a first image and a second image. The pattern matching device calculates a second correlation image having, as pixel values thereof, numerical values representing the correlation between a derivative image generated from the first image and the first image, and the learning unit performs learning so as to reduce the difference between the first correlation image and the second correlation image (refer to FIG. 1).
(FR) La présente divulgation concerne un dispositif de mise en correspondance de formes pouvant réaliser un traitement de mise en correspondance qui est caractérisé en ce qu'il implique une fonction d'apprentissage même pour un motif semi-conducteur comprenant un motif répétitif, en particulier. Le dispositif de mise en correspondance de formes de la présente divulgation est pourvu d'une unité d'apprentissage servant à estimer une première image de corrélation ayant, en tant que valeurs de pixel, des valeurs numériques représentant une corrélation entre une première image et une seconde image. Le dispositif de mise en correspondance de formes calcule une seconde image de corrélation ayant, en tant que valeurs de pixel, des valeurs numériques représentant la corrélation entre une image dérivée générée à partir de la première image et la première image, et l'unité d'apprentissage effectue un apprentissage de manière à réduire la différence entre la première image de corrélation et la seconde image de corrélation (se référer à la FIG. 1).
(JA) 本開示は、特に繰り返しパターンを含む半導体パターンにおいても、学習機能を有することを特徴とするマッチング処理を実現することができるパターンマッチング装置を提案する。本開示に係るパターンマッチング装置は、第1画像と第2画像との間の相関を表す数値を画素値として有する第1相関画像を推定する学習器を備え、前記パターンマッチング装置は、前記第1画像から生成した派生画像と前記第1画像との間の相関を表す数値を画素値として有する第2相関画像を計算し、前記学習器は前記第1相関画像と前記第2相関画像との間の差分を小さくするように学習する(図1参照)。
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