(EN) A metrology system may include a characterization tool configured to generate metrology data for a sample based on the interaction of an illumination beam with the sample, and may also include one or more adjustable measurement parameters to control the generation of metrology data. The metrology system may include one or more processors that may receive design data associated with a plurality of regions of interest for measurement, select individualized measurement parameters of the characterization tool for the plurality of regions of interest, and direct the characterization tool to characterize the plurality of regions of interest based on the individualized measurement parameters.
(FR) L'invention concerne un système de métrologie pouvant comprendre un outil de caractérisation configuré de manière à générer des données de métrologie pour un échantillon en fonction de l'interaction d'un faisceau d'éclairage avec l'échantillon, et peut également comprendre un ou plusieurs paramètres de mesure réglables afin de commander la génération de données de métrologie. Le système de métrologie peut comprendre un ou plusieurs processeurs qui peuvent recevoir des données de conception associées à une pluralité de régions d'intérêt pour une mesure, sélectionner des paramètres de mesure individualisés de l'outil de caractérisation pour la pluralité de régions d'intérêt, et diriger l'outil de caractérisation afin de caractériser la pluralité de régions d'intérêt en fonction des paramètres de mesure individualisés.