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1. WO2022002560 - PRECISE VACUUM WINDOW VIEWPORTS AND PELLICLES FOR RAPID METROLOGY RECOVERY

Publication Number WO/2022/002560
Publication Date 06.01.2022
International Application No. PCT/EP2021/065676
International Filing Date 10.06.2021
IPC
G03F 7/20 2006.1
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
G02B 7/00 2021.1
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
H05G 2/00 2006.1
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
Applicants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventors
  • SIMMONS, Rodney, D
  • KAMBHAMPATI, Murali, Krishna
  • MITRY, Mark, Joseph
  • URONE, Dustin, Michael
  • LI, Shuqi
  • DONKER, Rilpho, Ludovicus
  • MCKENZIE, Paul, Alexander
Agents
  • ASML NETHERLANDS B.V.
Priority Data
63/046,98401.07.2020US
Publication Language English (en)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) PRECISE VACUUM WINDOW VIEWPORTS AND PELLICLES FOR RAPID METROLOGY RECOVERY
(FR) HUBLOTS ET PELLICULES DE FENÊTRE SOUS VIDE PRÉCIS POUR RÉCUPÉRATION DE MÉTROLOGIE RAPIDE
Abstract
(EN) Systems, apparatuses, and methods are provided for optical metrology in an extreme ultraviolet (EUV) radiation system. An example system can include a metrology system and a window. An example metrology system can be configured to be disposed in a first environment and to perform one or more measurements of a region in a second environment along an optical axis of the metrology system. An example window can be configured to be disposed intersecting the optical axis and to isolate the metrology system from the second environment. The example window can be further configured to limit a transverse displacement from the optical axis to less than about ± 50 microns from a nominal transverse displacement from the optical axis at a primary focus of a radiation collector.
(FR) L'invention concerne des systèmes, des appareils et des procédés de métrologie optique dans un système de rayonnement ultraviolet extrême (EUV). Un système donné à titre d'exemple peut comprendre un système de métrologie et une fenêtre. Un exemple de système de métrologie peut être configuré pour être disposé dans un premier environnement et pour effectuer une ou plusieurs mesures d'une région dans un second environnement le long d'un axe optique du système de métrologie. Une fenêtre donnée à titre d'exemple peut être configurée pour être disposée en intersection avec l'axe optique et pour isoler le système de métrologie du second environnement. La fenêtre donnée à titre d'exemple peut en outre être configurée pour limiter un déplacement transversal depuis l'axe optique à moins d'environ ± 50 microns par rapport à un déplacement transversal nominal depuis l'axe optique au niveau d'un foyer principal d'un collecteur de rayonnement.
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