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1. WO2022002183 - LIGHT SOURCE SYSTEM AND PROJECTION SYSTEM

Publication Number WO/2022/002183
Publication Date 06.01.2022
International Application No. PCT/CN2021/103936
International Filing Date 01.07.2021
IPC
G03B 21/20 2006.1
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
21Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
14Details
20Lamp housings
Applicants
  • 深圳光峰科技股份有限公司 APPOTRONICS CORPORATION LIMITED [CN]/[CN]
Inventors
  • 赵鹏 ZHAO, Peng
  • 余新 YU, Xin
  • 吴超 WU, Chao
Priority Data
202010627481.401.07.2020CN
Publication Language Chinese (zh)
Filing Language Chinese (ZH)
Designated States
Title
(EN) LIGHT SOURCE SYSTEM AND PROJECTION SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE SOURCE DE LUMIÈRE ET SYSTÈME DE PROJECTION
(ZH) 一种光源系统与投影系统
Abstract
(EN) Disclosed are a light source system and a projection system. The light source system comprises: a light emitting assembly and a uniform light device. The light emitting assembly is used for generating an exit light beam, the exit light beam comprising a middle light beam and marginal light beams located on the periphery of the middle light beam. The uniform light device is provided on an optical path of the exit light beam, and used for performing uniformity of light on the exit light beam to obtain an illuminating light beam. Some of the marginal light beams are reflected by the inner side wall of the uniform light device to generate mirror light beams, and the mirror light beams are overlapped with corresponding marginal light beams. By means of the approach, the present application can improve the sharpness of the marginal light beams and reduce overfilling.
(FR) La présente invention porte sur un système de source de lumière et sur un système de projection. Le système de source de lumière comprend : un ensemble d'émission de lumière et un dispositif de lumière uniforme. L'ensemble d'émission de lumière est utilisé pour générer un faisceau de lumière de sortie, le faisceau de lumière de sortie comprenant un faisceau de lumière central et des faisceaux de lumière marginaux situés sur la périphérie du faisceau de lumière central. Le dispositif de lumière uniforme est disposé sur un trajet optique du faisceau de lumière de sortie, et il est utilisé pour effectuer une uniformisation de lumière sur le faisceau de lumière de sortie pour obtenir un faisceau de lumière d'éclairage. Certains des faisceaux de lumière marginaux sont réfléchis par la paroi latérale interne du dispositif de lumière uniforme de façon à générer des faisceaux de lumière miroirs, et les faisceaux de lumière miroirs chevauchent des faisceaux de lumière marginaux correspondants. Au moyen de l'approche qu'elle emploie, la présente invention peut améliorer la netteté des faisceaux de lumière marginaux et réduire le surremplissage.
(ZH) 本申请公开了一种光源系统与投影系统,该光源系统包括:发光组件与匀光器件,发光组件用于产生出射光束,其中,出射光束包括中间光束以及位于中间光束周围的边缘光束;匀光器件设置于出射光束的光路上,用于对出射光束进行匀光,得到照明光束;其中,边缘光束的一部分被匀光器件的内侧壁反射,生成镜像光束,且镜像光束与相应的边缘光束相互交叠。通过上述方式,本申请能够提高边缘光束的锐利程度,降低满溢。
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