(EN) A display module manufacturing method and a display screen. Said method comprises: pre-processing a semiconductor epitaxial wafer to form a semiconductor device; forming a first transparent layer (19) on a surface of a substrate (10) of the semiconductor device; etching the first transparent layer (19) to form a first opening (20) exposing the substrate (10); forming a first quantum dot layer (21) on the surface of the substrate (10) exposed by the first opening (20) and a surface of the first transparent layer (19); etching away the first quantum dot layer (21) outside the first opening (20) to retain the first quantum dot layer (21) inside the first opening (20); and forming a DBR film layer (25) for filtering blue light.
(FR) Procédé de fabrication de module d'affichage et écran d'affichage. Ledit procédé consiste à : prétraiter une tranche épitaxiale semi-conductrice pour former un dispositif à semi-conducteur ; former une première couche transparente (19) sur une surface d'un substrat (10) du dispositif à semi-conducteur ; graver la première couche transparente (19) pour former une première ouverture (20) exposant le substrat (10) ; former une première couche de points quantiques (21) sur la surface du substrat (10) exposée par la première ouverture (20) et une surface de la première couche transparente (19) ; graver la première couche de points quantiques (21) à l'extérieur de la première ouverture (20) pour maintenir la première couche de points quantiques (21) à l'intérieur de la première ouverture (20) ; et former une couche de film DBR (25) pour filtrer la lumière bleue.
(ZH) 一种显示模组的制作方法及显示屏,该方法包括:对半导体外延片进行预处理以形成半导体器件;在所述半导体器件的衬底(10)表面形成第一透明层(19);刻蚀所述第一透明层(19)以形成暴露所述衬底(10)的第一开口(20);在所述第一开口(20)暴露的所述衬底(10)表面以及所述第一透明层(19)表面形成第一量子点层(21);刻蚀掉所述第一开口(20)外部的所述第一量子点层(21),以保留所述第一开口(20)内部的所述第一量子点层(21);形成滤除蓝光的DBR膜层(25)。