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1. WO2021234035 - METHOD FOR FOCUSING AND OPERATING A PARTICLE BEAM MICROSCOPE

Publication Number WO/2021/234035
Publication Date 25.11.2021
International Application No. PCT/EP2021/063356
International Filing Date 19.05.2021
IPC
H01J 37/21 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
21Means for adjusting the focus
H01J 37/147 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
H01J 37/28 2006.1
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron- or ion-diffraction tubes
28with scanning beams
CPC
H01J 2237/1501
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
15Means for deflecting or directing discharge
1501Beam alignment means or procedures
H01J 2237/216
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
21Focus adjustment
216Automatic focusing methods
H01J 37/1471
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
1471for centering, aligning or positioning of ray or beam
H01J 37/21
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
21Means for adjusting the focus
H01J 37/28
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
28with scanning beams
Applicants
  • CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH [DE]/[DE]
Inventors
  • DIEMER, Simon
  • GAMM, Björn
Agents
  • DIEHL & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWALTSKANZLEI MBB
Priority Data
10 2020 113 502.519.05.2020DE
Publication Language German (de)
Filing Language German (DE)
Designated States
Title
(DE) VERFAHREN ZUM FOKUSSIEREN UND BETREIBEN EINES TEILCHENSTRAHLMIKROSKOPS
(EN) METHOD FOR FOCUSING AND OPERATING A PARTICLE BEAM MICROSCOPE
(FR) PROCÉDÉ POUR FAIRE FONCTIONNER UN MICROSCOPE À FAISCEAU DE PARTICULES
Abstract
(DE) Ein Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlmikroskops umfasst ein Einstellen eines Abstands eines Objekts (92) von einer Objektivlinse (35), ein Einstellen einer Erregung der Objektivlinse, ein Einstellen einer Erregung eines Doppelablenkers (75) auf eine erste Einstellung so, dass ein Teilchenstrahl (103) unter einer ersten Orientierung auf das Objekt trifft, und ein Aufnehmen eines ersten teilchenmikroskopischen Bildes bei diesen Einstellungen. Weiter umfasst das Verfahren ein Einstellen der Erregung des Doppelablenkers auf eine zweite Einstellung so, dass der Teilchenstrahl unter einer zweiten Orientierung auf das Objekt trifft, die von der ersten Orientierung verschieden ist, und ein Aufnehmen eines zweiten teilchenmikroskopischen Bildes bei der zweiten Einstellung des Doppelablenkers. Sodann werden ein neuer Abstand des Objekts von der Objektivlinse basierend auf einer Analyse des ersten und des zweiten teilchenmikroskopischen Bildes bestimmt und der Abstands des Objekts von der Objektivlinse auf den neuen Abstand eingestellt.
(EN) The invention relates to a method for operating a particle beam microscope, comprising- setting a distance of an object (92) from an objective lens (35); - setting an excitation of the objective lens; - setting an excitation of a double deflector (75) to a first setting such that a particle beam (103) hits the object in a first orientation; and - capturing a first particle-microscopic image under these settings. The method also comprises: - setting the excitation of the double deflector to a second setting such that the particle beam hits the object in a second orientation, which is different from the first orientation; and - capturing a second particle-microscopic image under the second setting of the double deflector. Then a new distance of the object from the objective lens is determined on the basis of an analysis of the first and the second particle-microscopic images, and the distance of the object from the objective lens is set to the new distance.
(FR) L'invention concerne un procédé permettant de faire fonctionner un microscope à faisceau de particules qui comprend les étapes suivantes : régler la distance d'un objet (92) par rapport à une lentille d'objectif (35), régler une excitation de la lentille d'objectif, régler une excitation d'un déflecteur double (75) à un premier réglage de sorte qu'un faisceau de particules (103) arrive sur l'objet selon une première orientation, et effectuer une première prise de vue par microscope à faisceau de particules à ces réglages. Ledit procédé comprend également comme étape le réglage de l'excitation du déflecteur double à un second réglage, de sorte que le faisceau de particules arrive sur l'objet selon une seconde orientation, laquelle est différente de la première orientation, et effectuer une seconde prise de vue par microscope à faisceau de particules lors du second réglage du déflecteur double. Une nouvelle distance de l'objet par rapport à la lentille d'objectif est ensuite définie sur la base d'une analyse de la première et de la seconde image prise au microscope à faisceau de particules et la distance de l'objet par rapport à la lentille d'objectif est ajustée à la nouvelle distance.
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