(EN) A method of plasma processing includes performing a reactive species control phase, performing an ion/radical control phase, and performing a by-product control phase. The reactive species control phase includes pulsing source power to a processing chamber to generate ions and radicals in a plasma. The ion/radical control phase is performed after the reactive species control phase. The ion/radical control phase includes reducing the source power to the processing chamber and pulsing bias power to a substrate in the processing chamber. The by-product control phase is performed after the ion/radical control phase. The by-product control phase includes reducing the source power to the processing chamber relative to the reactive species control phase and reducing the bias power to the substrate relative to the ion/radical control phase.
(FR) Le procédé de traitement au plasma selon l'invention consiste à : mettre en oeuvre une phase de commande d'espèces réactives, mettre en oeuvre une phase de commande d'ions/radicaux et mettre en oeuvre une phase de commande de sous-produits. La phase de commande d'espèces réactives consiste à appliquer une impulsion d'énergie de source à une chambre de traitement afin de générer des ions et des radicaux dans un plasma. La phase de commande d'ions/radicaux est mise en oeuvre après la phase de commande d'espèces réactives. La phase de commande d'ions/radicaux consiste à réduire l'énergie de source appliquée à la chambre de traitement et à appliquer une impulsion d'énergie de polarisation à un substrat se situant dans la chambre de traitement. La phase de commande de sous-produits est mise en oeuvre après la phase de commande d'ions/radicaux. La phase de commande de sous-produits consiste à réduire l'énergie de source appliquée à la chambre de traitement par rapport à la phase de commande d'espèces réactives, et à réduire l'énergie de polarisation appliquée au substrat par rapport à la phase de commande d'ions/radicaux.