(EN) An array substrate (100) and a preparation method therefor. The method for preparing the array substrate (100) comprises: advancing the execution of a conducting treatment of an active layer (120) before the stripping of a photoresist (150). In addition, in the preparation method, oxygen in the prior art is replaced with helium, such that the production efficiency is improved, the production cost is reduced, and the yield is high.
(FR) L’invention concerne un substrat de matrice (100) et son procédé de préparation. Le procédé destiné à préparer le substrat de matrice (100) consiste : à avancer l’exécution d’un traitement conducteur d’une couche active (120) avant l’ablation d’un enduit photorésistant (150). Par ailleurs, selon le procédé de préparation, l’oxygène dans l’état de la technique est remplacé par de l’hélium, de sorte que le rendement de production est amélioré, que le coût de production est réduit, et que le rendement est élevé.
(ZH) 一种阵列基板(100)及其制备方法,所述阵列基板(100)的制备方法将有源层(120)的导体化处理提前至剥离光刻胶(150)前执行,并且该制备方法将现有技术中的氧气替换为氦气,提高了生产效率,减低了生产成本,且良品率高。