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1. WO2021001932 - ELECTRON BEAM DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING ELECTRON BEAM DEVICE

Publication Number WO/2021/001932
Publication Date 07.01.2021
International Application No. PCT/JP2019/026322
International Filing Date 02.07.2019
IPC
H01J 37/06 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
06Electron sources; Electron guns
H01J 37/18 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
18Vacuum locks
Applicants
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
Inventors
  • 川本 絵里奈 KAWAMOTO Erina
  • 松永 宗一郎 MATSUNAGA Soichiro
  • 片桐 創一 KATAGIRI Souichi
  • 糟谷 圭吾 KASUYA Keigo
  • 土肥 隆 DOI Takashi
  • 澤畠 哲哉 SAWAHATA Tetsuya
  • 山崎 実 YAMAZAKI Minoru
Agents
  • ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.
Priority Data
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) ELECTRON BEAM DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING ELECTRON BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU D’ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D’UN DISPOSITIF À FAISCEAU D’ÉLECTRONS
(JA) 電子線装置及び電子線装置の制御方法
Abstract
(EN)
The purpose of the invention is to provide an electron beam device such that there is a reduction in the time it takes for an electron gun chamber to which a sputter ion pump and a non-evaporable getter pump are connected to reach an ultra-high vacuum state. The invention provides an electron beam device provided with an electron gun chamber in which an electron gun for emitting an electron beam is disposed and to which a sputter ion pump and a non-evaporable getter pump are connected, the electron beam device being characterized by being further provided with a gas supply unit for supplying at least one gas among hydrogen, oxygen, carbon monoxide, and carbon dioxide to the electron gun chamber.
(FR)
La présente invention a pour objet un dispositif à faisceau d’électrons avec lequel il y a une réduction du temps que prend une chambre de canon à électrons, à laquelle sont connectées une pompe ionique à pulvérisation et une pompe à sorbeur non évaporable, pour atteindre un état de vide ultra-élevé. La présente invention concerne un dispositif à faisceau d’électrons pourvu d’une chambre de canon à électrons dans laquelle est disposé un canon à électrons pour émettre un faisceau d’électrons et à laquelle sont connectées une pompe ionique à pulvérisation et une pompe à sorbeur non évaporable. Le dispositif à faisceau d’électrons est caractérisé en ce qu’il est pourvu en outre d’une unité de fourniture de gaz pour fournir à la chambre de canon à électrons au moins un gaz parmi de l’hydrogène, de l’oxygène, du monoxyde de carbone et du dioxyde de carbone.
(JA)
スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室が極高真空状態に到達するまでの時間を低減する電子線装置を提供するために、電子線を放出する電子銃が配置されるとともに、スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室を備える電子線装置であって、水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素の少なくともいずれかのガスを前記電子銃室に供給するガス供給部をさらに備えることを特徴とする。
Latest bibliographic data on file with the International Bureau