(EN) The purpose of the invention is to provide an electron beam device such that there is a reduction in the time it takes for an electron gun chamber to which a sputter ion pump and a non-evaporable getter pump are connected to reach an ultra-high vacuum state. The invention provides an electron beam device provided with an electron gun chamber in which an electron gun for emitting an electron beam is disposed and to which a sputter ion pump and a non-evaporable getter pump are connected, the electron beam device being characterized by being further provided with a gas supply unit for supplying at least one gas among hydrogen, oxygen, carbon monoxide, and carbon dioxide to the electron gun chamber.
(FR) La présente invention a pour objet un dispositif à faisceau d’électrons avec lequel il y a une réduction du temps que prend une chambre de canon à électrons, à laquelle sont connectées une pompe ionique à pulvérisation et une pompe à sorbeur non évaporable, pour atteindre un état de vide ultra-élevé. La présente invention concerne un dispositif à faisceau d’électrons pourvu d’une chambre de canon à électrons dans laquelle est disposé un canon à électrons pour émettre un faisceau d’électrons et à laquelle sont connectées une pompe ionique à pulvérisation et une pompe à sorbeur non évaporable. Le dispositif à faisceau d’électrons est caractérisé en ce qu’il est pourvu en outre d’une unité de fourniture de gaz pour fournir à la chambre de canon à électrons au moins un gaz parmi de l’hydrogène, de l’oxygène, du monoxyde de carbone et du dioxyde de carbone.
(JA) スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室が極高真空状態に到達するまでの時間を低減する電子線装置を提供するために、電子線を放出する電子銃が配置されるとともに、スパッターイオンポンプと非蒸発ゲッターポンプが接続される電子銃室を備える電子線装置であって、水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素の少なくともいずれかのガスを前記電子銃室に供給するガス供給部をさらに備えることを特徴とする。