(EN) Provided in embodiments of the present disclosure are an array substrate and a sound generation device, the array substrate comprising: a base substrate, and an elastic layer, piezoelectric layer, and first matching layer that are located on the base substrate and that are stacked in sequence; the array substrate comprises a sound generation region and a non-sound generation region; the base substrate is provided with a plurality of first hollow cavity structures at least within the sound generation region; the pattern of the sound generation region is centrosymmetric, and the center of symmetry of the sound generation region and the center of symmetry of the base substrate are located in the same region; and the orthographic projection of the first matching layer on the base substrate overlaps with the sound generation region.
(FR) Des modes de réalisation de la présente invention concernent un support de réseau et un dispositif de génération de son, le support de réseau comprenant : un support de base, et une couche élastique, une couche piézoélectrique, et une première couche d'adaptation qui sont situées sur le support de base et qui sont empilées en séquence ; le support de réseau comprend une région de génération de son et une région ne générant pas de son ; le support de base est pourvu d'une pluralité de premières structures de cavité creuse au moins à l'intérieur de la région de génération de son ; le motif de la région de génération de son est centrosymétrique, et le centre de symétrie de la région de génération de son et le centre de symétrie du support de base sont situés dans la même région ; et la projection orthographique de la première couche d'adaptation sur le support de base chevauche la région de génération de son.
(ZH) 本公开实施例提供的一种阵列基板及发声装置，该阵列基板包括：衬底基板，位于所述衬底基板上依次层叠设置的弹性层、压电层和第一匹配层；阵列基板包括发声区域和非发声区域；衬底基板至少在发声区域内具有多个第一空腔结构；发声区域的图形为中心对称图形，发声区域的对称中心与衬底基板的对称中心位于同一区域；第一匹配层在衬底基板的正投影与发声区域重合。