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1. WO2020223326 - SELECTIVE DEPOSITION USING METHYLATION TREATMENT

Publication Number WO/2020/223326
Publication Date 05.11.2020
International Application No. PCT/US2020/030434
International Filing Date 29.04.2020
IPC
H01L 21/02 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
CPC
H01L 21/02178
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
02104Forming layers
02107Forming insulating materials on a substrate
02109characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
02112characterised by the material of the layer
02172the material containing at least one metal element, e.g. metal oxides, metal nitrides, metal oxynitrides or metal carbides
02175characterised by the metal
02178the material containing aluminium, e.g. Al2O3
H01L 21/02315
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
02104Forming layers
02107Forming insulating materials on a substrate
02296characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
02299pre-treatment
02312treatment by exposure to a gas or vapour
02315treatment by exposure to a plasma
Applicants
  • MATTSON TECHNOLOGY, INC. [US]/[US]
  • BEIJING E-TOWN SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventors
  • YANG, Michael X.
  • CHUNG, Hua
  • LU, Xinliang
Agents
  • WORKMAN, J., Parks
Priority Data
62/840,68630.04.2019US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) SELECTIVE DEPOSITION USING METHYLATION TREATMENT
(FR) DÉPÔT SÉLECTIF EN UTILISANT UN TRAITEMENT DE MÉTHYLATION
Abstract
(EN)
Processes for selective deposition of material on a workpiece are provided. In one example, the method includes placing a workpiece support in a processing chamber. The workpiece has a first material and a second material. The second material is different from the first material. The method includes performing an oragnic radical based surface treatment process on the workpiece to modify an adsorption characteristic of the first material selectively relative to the second material such that the first material has a first adsorption characteristic and the second material has a second adsorption characteristic. The method includes performing a deposition process on the workpiece such that a material is selectively deposited on the second material relative to the first material.
(FR)
L’invention concerne des processus de dépôt sélectif de matériau sur une pièce ouvrée. Dans un exemple, le procédé comprend la mise en place d'un support de pièce ouvrée dans une chambre de traitement. La pièce ouvrée comprend un premier matériau et un deuxième matériau. Le deuxième matériau est différent du premier matériau. Le procédé comprend la réalisation d'un processus de traitement de surface basé sur un radical organique sur la pièce ouvrée afin de modifier une caractéristique d'adsorption du premier matériau sélectivement par rapport au deuxième matériau, de sorte que le premier matériau présente une première caractéristique d'adsorption et le deuxième matériau présente une deuxième caractéristique d'adsorption. Le procédé comprend la réalisation d'un processus de dépôt sur la pièce ouvrée de sorte qu'un matériau est déposé sélectivement sur le deuxième matériau par rapport au premier matériau.
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