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1. WO2020194420 - RESIST STRIPPING SOLUTION

Publication Number WO/2020/194420
Publication Date 01.10.2020
International Application No. PCT/JP2019/012341
International Filing Date 25.03.2019
IPC
G03F 7/42 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
Applicants
  • パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventors
  • 淵上 真一郎 FUCHIGAMI Shinichirou
  • 鬼頭 佑典 KITO Yusuke
  • 小池 至人 KOIKE Keito
Agents
  • 廣幸 正樹 HIROKOH Masaki
Priority Data
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) RESIST STRIPPING SOLUTION
(FR) SOLUTION DE PELAGE POUR RÉSERVE
(JA) レジスト剥離液
Abstract
(EN)
Due to the implementation of high-definition broadcast formats such as 4K and 8K, television screens are becoming larger, and consequently, to prevent a failure from occurring during element forming, photoresist baking temperatures are being raised, leading to the photoresists becoming difficult to strip. Large amounts of resist stripping solution are being used, so in order to lower the costs thereof, a resist stripping solution having a high regeneration rate is sought. The invention provides a resist stripping solution enabling stripping of a hard-baked resist and capable of regeneration by distillation. The resist stripping solution is characterized by comprising a secondary cyclic amine compound, a tertiary polyamine compound, and 0.0001 to 0.15% by mass of a metal surface protectant.
(FR)
Selon l'invention, un format de radiodiffusion haute définition tel que 4K et 8K, est exécuté, et un écran de télévision est ainsi agrandi. Ainsi, afin d'éviter les échecs lors de la formation d'éléments, la température de cuisson d'une résine photosensible est accrue, et cette résine photosensible est peu susceptible d'être pelée. En outre, une solution de pelage pour réserve est mise en œuvre en grande quantité, son coût est ainsi baissé, ce qui permet d'obtenir une solution de pelage pour réserve présentant un taux de reproduction élevé. Plus précisément, l'invention fournit une solution de pelage pour réserve qui contient un composé amine cyclique secondaire et un composé polyamine tertiaire, et qui est caractéristique en ce qu'elle contient 0,0001 à 0,15% en masse d'un agent protecteur de surface métallique. La solution de pelage pour réserve de l'invention permet le pelage d'une réserve ayant été soumise à une cuisson dure, et permet une reproduction par distillation.
(JA)
4K、8Kといった高精細度の放送フォーマットが実施されるので、テレビの画面が大きくなる。そのため素子形成時に失敗がないように、フォトレジストの焼成温度が上昇し、フォトレジストは剥離しにくくなる。また、大量のレジスト剥離液を使用するため、そのコスト低下のため、再生率の高いレジスト剥離液が求められている。 2級環状アミン化合物と、3級ポリアミン化合物を含み、0.0001~0.15質量%の金属表面保護剤を含むことを特徴とするレジスト剥離液は、ハードベイクされたレジストを剥離させることができ、蒸留再生も可能なレジスト剥離液を提供する。
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