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1. WO2020194418 - RESIST REMOVAL LIQUID

Publication Number WO/2020/194418
Publication Date 01.10.2020
International Application No. PCT/JP2019/012327
International Filing Date 25.03.2019
IPC
G03F 7/42 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
Applicants
  • パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventors
  • 淵上 真一郎 FUCHIGAMI Shinichirou
  • 鬼頭 佑典 KITO Yusuke
  • 小池 至人 KOIKE Keito
Agents
  • 廣幸 正樹 HIROKOH Masaki
Priority Data
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) RESIST REMOVAL LIQUID
(FR) SOLUTION DE PELAGE POUR RÉSERVE
(JA) レジスト剥離液
Abstract
(EN)
The size of television screens is increasing as a result of the implementation of high-definition broadcasting formats such as 4K and 8K. Consequently, the baking temperatures of photoresists are being raised in order to prevent failures during element formation, and photoresists are becoming difficult to remove. In addition, a large amount of resist removal liquid is used, so there is a need for a resist removal liquid having a high recoverability rate in order to reduce costs. Provided is a resist removal liquid that makes it possible to remove a hard-baked resist and that can be recovered by distillation. The resist removal liquid is characterized by including: a secondary cyclic amine compound; at least one linear amide selected from among N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N-N dimethylacetamide, and N,N-diethylacetamide; a polar solvent comprising 2-pyrrolidone and water; and 0.0001-0.01 mass% of a metal surface protective agent. The resist removal liquid is also characterized by having a higher content of the linear amide than of 2-pyrrolidone.
(FR)
Selon l'invention, un format de radiodiffusion haute définition tel que 4K et 8K, est exécuté, et un écran de télévision est ainsi agrandi. Ainsi, afin d'éviter les échecs lors de la formation d'éléments, la température de cuisson d'une résine photosensible est accrue, et cette résine photosensible est peu susceptible d'être pelée. En outre, une solution de pelage pour réserve est mise en œuvre en grande quantité, son coût est ainsi baissé, ce qui permet d'obtenir une solution de pelage pour réserve présentant un taux de reproduction élevé. Plus précisément, l'invention fournit une solution de pelage pour réserve qui contient un composé amine cyclique secondaire, au moins un amide choisi parmi un N-méthylformamide, un N,N-diméthylformamide, un N,N-diéthylformamide, un N,N-diméthylacétamide et un N,N-diéthylacétamide, en tant qu'amide à chaîne droite, un solvant polaire constitué d'une 2-pyrrolidone et d'une eau, et 0,0001 à 0,01% en masse d'un agent protecteur de surface métallique, et qui est caractéristique en ce que la teneur en amide à chaîne droite est supérieure à la teneur en 2-pyrrolidone. La solution de pelage pour réserve de l'invention permet le pelage d'une réserve ayant été soumise à une cuisson dure, et permet une reproduction par distillation.
(JA)
4K、8Kといった高精細度の放送フォーマットが実施されるので、テレビの画面が大きくなる。そのため素子形成時に失敗がないように、フォトレジストの焼成温度が上昇し、フォトレジストは剥離しにくくなる。また、大量のレジスト剥離液を使用するため、そのコスト低下のため、再生率の高いレジスト剥離液が求められている。 2級環状アミン化合物と、直鎖アミドとしてN-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミドから選ばれる少なくとも一種と、2-ピロリドンおよび水からなる極性溶媒と、0.0001~0.01質量%の金属表面保護剤を含み、前記直鎖アミドの含有量は前記2-ピロリドンの含有量より多いことを特徴とするレジスト剥離液は、ハードベイクされたレジストを剥離でき、蒸留再生も可能なレジスト剥離液を提供する。
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