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1. WO2020193039 - METHOD OF MEASURING AN ALIGNMENT MARK OR AN ALIGNMENT MARK ASSEMBLY, ALIGNMENT SYSTEM, AND LITHOGRAPHIC TOOL

Publication Number WO/2020/193039
Publication Date 01.10.2020
International Application No. PCT/EP2020/054835
International Filing Date 25.02.2020
IPC
G03F 9/00 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
CPC
G03F 9/7088
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
70for microlithography
7088Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
Applicants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventors
  • BIJNEN, Franciscus, Godefridus, Casper
  • BRINKHOF, Ralph
Agents
  • VAN DE VEN, Jan-Piet
Priority Data
19165581.027.03.2019EP
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) METHOD OF MEASURING AN ALIGNMENT MARK OR AN ALIGNMENT MARK ASSEMBLY, ALIGNMENT SYSTEM, AND LITHOGRAPHIC TOOL
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE D'UN REPÈRE D'ALIGNEMENT OU D'UN ENSEMBLE REPÈRE D'ALIGNEMENT, SYSTÈME D'ALIGNEMENT ET OUTIL LITHOGRAPHIQUE
Abstract
(EN)
The invention provides a method of measuring an alignment mark or an alignment mark assembly, wherein the alignment mark comprises grid features extending in at least two directions, the method comprising: measuring the alignment mark or alignment mark assembly using an expected location of the alignment mark or alignment mark assembly, determining a first position of the alignment mark or alignment mark assembly in a first direction, determining a second position of the alignment mark or alignment mark assembly in a second direction, wherein the second direction is perpendicular to the first direction, determining a second direction scan offset between the expected location of the alignment mark or alignment mark assembly in the second direction and the determined second position, and correcting the first position on the basis of the second direction scan offset using at least one correction data set to provide a first corrected position.
(FR)
L'invention concerne un procédé de mesure d'un repère d'alignement ou d'un ensemble repère d'alignement, le repère d'alignement comprenant des éléments de grille s'étendant dans au moins deux directions, le procédé consistant à : mesurer le repère d'alignement ou l'ensemble repère d'alignement à l'aide d'un emplacement attendu du repère d'alignement ou de l'ensemble repère d'alignement, déterminer une première position du repère d'alignement ou de l'ensemble repère d'alignement dans une première direction, déterminer une seconde position du repère d'alignement ou de l'ensemble repère d'alignement dans une seconde direction, la seconde direction étant perpendiculaire à la première direction, déterminer un décalage de balayage de seconde direction entre l'emplacement attendu du repère d'alignement ou de l'ensemble repère d'alignement dans la seconde direction et la seconde position déterminée, et corriger la première position sur la base du décalage de balayage de seconde direction à l'aide d'au moins un ensemble de données de correction pour fournir une première position corrigée.
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