(EN) A system and method for controlling particles using projected light are provided. In some aspects, the method includes generating a beam of light using an optical source, and directing the beam of light to a beam filter comprising a first mask, a first lens, a second mask, and a second lens. The method also includes forming an optical pattern using the beam filter, and projecting the optical pattern on a plurality of particles to control their locations in space.
(FR) L'invention concerne un système et un procédé de commande faisant appel à la lumière projetée. Selon certains aspects, le procédé consiste à générer un faisceau de lumière à l'aide d'une source optique, et à diriger le faisceau de lumière vers un filtre de faisceau comprenant un premier masque, une première lentille, un second masque et une seconde lentille. Le procédé consiste également à former un motif optique à l'aide du filtre de faisceau, et à projeter le motif optique sur une pluralité de particules pour commander leurs emplacements dans l'espace.