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1. WO2020137824 - CYCLOBUTENE PRODUCTION METHOD

Publication Number WO/2020/137824
Publication Date 02.07.2020
International Application No. PCT/JP2019/049899
International Filing Date 19.12.2019
IPC
C07C 23/06 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
23Compounds containing at least one halogen atom bound to a ring other than a six-membered aromatic ring
02Monocyclic halogenated hydrocarbons
06with a four-membered ring
C07C 17/25 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
17Preparation of halogenated hydrocarbons
25by splitting-off hydrogen halides from halogenated hydrocarbons
C07B 61/00 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
61Other general methods
CPC
C07B 61/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
61Other general methods
C07C 17/25
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
17Preparation of halogenated hydrocarbons
25by splitting-off hydrogen halides from halogenated hydrocarbons
C07C 23/06
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
23Compounds containing at least one halogen atom bound to a ring other than a six-membered aromatic ring
02Monocyclic halogenated hydrocarbons
06with a four-membered ring
Applicants
  • ダイキン工業株式会社 DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP]/[JP]
Inventors
  • 江藤 友亮 ETOU, Yuusuke
  • 中村 新吾 NAKAMURA, Shingo
Agents
  • 特許業務法人三枝国際特許事務所 SAEGUSA & PARTNERS
Priority Data
2018-24064525.12.2018JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) CYCLOBUTENE PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CYCLOBUTÈNE
(JA) シクロブテンの製造方法
Abstract
(EN)
The purpose of the present invention is to produce cyclobutene containing a halogen atom with a high conversion ratio (yield) and high selectivity. This method, for producing the cyclobutene represented in general formula (1) (in the formula, X1, X2, X3 and X4 are the same or different, and represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a perfluoroalkyl group. Y represents a halogen atom), involves a step for subjecting the cyclobutane represented by general formula (2) (in the formula, X1, X2, X3, X4 and Y are as described above. X5 and X6 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a perfluoroalkyl group) to a desorption reaction, wherein the desorption reaction step is performed in the presence of a base, in a closed reaction system, or, the desorption reaction step is performed with the reaction temperature greater than or equal to 20°C, the reaction pressure greater than or equal to 0 kPa, and in the presence of a base.
(FR)
L'invention a pour objet de fabriquer selon un facteur de conversion (rendement) élevé et une sélectivité élevée un cyclobutène contenant un atome d'halogène. Plus précisément, l'invention concerne le procédé de fabrication d'un cyclobutène représenté par la formule générale (1) (Dans la formule, X1, X2, X3 et X4 sont identiques ou différents, et représentent un atomes d'hydrogène, un atome d'halogène ou un perfluoroalkyle. Y représente un atome d'halogène.). Ce procédé de fabrication inclut une étape au cours de laquelle un cyclobutane représenté par la formule générale (2) (Dans la formule, X1, X2, X3, X4 et Y sont tels que ci-dessus. X5 et X6) sont identiques ou différents, et représentent un atomes d'hydrogène, un atome d'halogène ou un perfluoroalkyle.) est soumis à une réaction d'élimination. Soit ladite étape de réaction d'élimination est effectuée en présence d'une base et dans un système de réaction fermé, soit ladite étape de réaction d'élimination est effectuée à une température de réaction supérieure ou égale à 20°C, à une pression de réaction supérieure ou égale à 0kPa, et en présence d'une base.
(JA)
本開示は、ハロゲン原子を含むシクロブテンを高い転化率(収率)及び高い選択率で製造することを目的とする。 一般式(1): (式中、X1、X2、X3及びX4は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、又はパーフルオロアルキル基を示す。Yは、ハロゲン原子を示す。)で表されるシクロブテンの製造方法であって、 一般式(2):(式中、X1、X2、X3、X4及びYは、前記に同じである。X5及びX6は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、又はパーフルオロアルキル基を示す。) で表されるシクロブタンを脱離反応する工程を含み、 前記脱離反応する工程を、塩基の存在下、密閉反応系で行う、又は、 前記脱離反応する工程を、反応温度を20℃以上とし、反応圧力を0kPa以上とし、塩基の存在下で行う、製造方法。
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau