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1. WO2020137195 - DIELECTRIC MULTILAYER FILM, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND IMAGE DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH SAME

Publication Number WO/2020/137195
Publication Date 02.07.2020
International Application No. PCT/JP2019/044043
International Filing Date 11.11.2019
IPC
G02B 5/26 2006.1
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
26Reflecting filters
G02B 5/28 2006.1
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
28Interference filters
C23C 14/08 2006.1
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
08Oxides
CPC
C23C 14/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
08Oxides
G02B 5/26
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
26Reflecting filters
G02B 5/28
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
28Interference filters
Applicants
  • コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP]/[JP]
Inventors
  • 松田 亮二 MATSUDA, Ryoji
  • 佐野 永悟 SANO, Eigo
Agents
  • 特許業務法人光陽国際特許事務所 KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM
Priority Data
2018-24399427.12.2018JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) DIELECTRIC MULTILAYER FILM, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND IMAGE DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH SAME
(FR) FILM MULTICOUCHE DIÉLECTRIQUE, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE ÉQUIPÉ DE CELUI-CI
(JA) 誘電体多層膜、その製造方法及びそれを具備した画像表示装置
Abstract
(EN)
The objective of the present invention is to provide a dielectric multilayer film that is formed on a resin substrate and that balances shape change suppression, crack prevention, optical characteristics (oblique incidence characteristics) and producibility of the dielectric multilayer film, and to provide a production method therefor and an image display device equipped with the same. This dielectric multilayer film comprises at least one layer of a low refractive index layer and a plurality of high refractive index layers on a resin substrate, and is characterized in that the total film thickness of the dielectric multilayer film is 2 μm or thicker, the refractive indices for the plurality of high refractive index layers for a light wavelength of 550 nm are 1.9 or greater and are different from one another, an alternately layered part wherein the plurality of high refractive index layers have been layered alternately is provided, and the low refractive index layers, having a refractive index of less than 1.9 for a light wavelength of 550 nm, are disposed between the alternately layered parts.
(FR)
L'objectif de la présente invention est de fournir un film multicouche diélectrique qui est formé sur un substrat de résine et qui équilibre la suppression de changement de forme, la prévention de fissures, les caractéristiques optiques (caractéristiques d'incidence oblique) et la productibilité du film multicouche diélectrique, et de fournir son procédé de production et un dispositif d'affichage d'image équipé de celui-ci. Ce film multicouche diélectrique comprend au moins une couche d'une couche à faible indice de réfraction et une pluralité de couches à indice de réfraction élevé sur un substrat de résine, et est caractérisé en ce que l'épaisseur totale de film du film multicouche diélectrique est de 2 µm ou plus, les indices de réfraction pour la pluralité de couches à indice de réfraction élevé pour une longueur d'onde de lumière de 550 nm sont de 1,9 ou plus et sont différents les uns des autres, une partie en couches alternées dans laquelle la pluralité de couches à indice de réfraction élevé ont été stratifiées en alternance, et les couches à faible indice de réfraction, ayant un indice de réfraction inférieur à 1,9 pour une longueur d'onde de lumière de 550 nm, sont disposées entre les parties en couches alternées.
(JA)
本発明の課題は、誘電体多層膜の形状変化の抑制、クラック防止、光学特性(斜光入射特性)及び生産性を兼ね備えた、樹脂基板上に形成された誘電体多層膜、その製造方法及びそれを具備した画像表示装置を提供することである。 本発明の誘電体多層膜は、樹脂基板上に少なくとも一層の低屈折率層と複数の高屈折率層が具備した誘電体多層膜であって、前記誘電体多層膜の総膜厚が2μm以上であり、前記複数の高屈折率層の光波長550nmにおける屈折率が1.9以上で互いに異なっており、当該複数の高屈折率層が交互に積層された交互積層部を有し、かつ、前記交互積層部の間に、光波長550nmにおける屈折率が1.9未満である前記低屈折率層が配置されたことを特徴とする。
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