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1. WO2020116523 - DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FINE GLASS PARTICLE DEPOSITED BODY

Publication Number WO/2020/116523
Publication Date 11.06.2020
International Application No. PCT/JP2019/047458
International Filing Date 04.12.2019
IPC
C03B 8/04 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE OR SHAPING OF GLASS, OR OF MINERAL OR SLAG WOOL; SUPPLEMENTARY PROCESSES IN THE MANUFACTURE OR SHAPING OF GLASS, OR OF MINERAL OR SLAG WOOL
8Production of glass by other processes than melting processes
04by gas phase reaction processes
Applicants
  • 住友電気工業株式会社 SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. [JP]/[JP]
Inventors
  • 守屋 知巳 MORIYA Tomomi
Agents
  • 特許業務法人 信栄特許事務所 SHIN-EI PATENT FIRM, P.C.
Priority Data
2018-22711504.12.2018JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FINE GLASS PARTICLE DEPOSITED BODY
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CORPS SUR LEQUEL SONT DÉPOSÉES DE FINES PARTICULES DE VERRE
(JA) ガラス微粒子堆積体の製造装置及び製造方法
Abstract
(EN)
Provided is a device for producing a fine glass particle deposited body by depositing fine glass particles on a starting rod disposed within a reaction vessel, the device being provided with: a burner for synthesizing fine glass particles by jetting out a source gas; a transfer mechanism to which the burner is disposed and which causes the burner to move backward in association with an increase in the diameter of a fine glass particle deposited body; a vaporizer which is disposed to the transfer mechanism so as to be moved backward integrally with the burner and which converts a liquid siloxane into a source gas through vaporization; piping through which the source gas is fed from the vaporizer to the burner; and a heating mechanism which heats up the piping with a heating temperature of at least 230°C.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de production d'un corps sur lequel sont déposées de fines particules de verre par dépôt de fines particules de verre sur une tige de départ disposée à l'intérieur d'un récipient de réaction, le dispositif étant pourvu : d'un brûleur pour synthétiser de fines particules de verre par projection d'une gaz source ; d'un mécanisme de transfert sur lequel est disposé le brûleur et qui amène le brûleur à reculer lorsque le diamètre d'un corps sur lequel sont déposées les fines particules de verre augmente ; d'un vaporisateur qui est disposé sur le mécanisme de transfert de façon reculer d'un seul tenant avec le brûleur et qui convertit un siloxane liquide en un gaz source par vaporisation ; d'une tuyauterie à travers laquelle le gaz source est alimenté du vaporisateur au brûleur ; et d'un mécanisme de chauffage qui chauffe la tuyauterie avec une température de chauffage d'au moins 230° C.
(JA)
反応容器内に配置された出発ロッドにガラス微粒子を堆積してガラス微粒子堆積体を作製するガラス微粒子堆積体の製造装置であって、原料ガスを噴射してガラス微粒子を合成するバーナと、バーナが配置され、ガラス微粒子堆積体の径が増大するに伴ってバーナを後退させる移動機構と、バーナと共に一体的に後退するように移動機構に配置され、液体のシロキサンを気化させて原料ガスにする気化器と、原料ガスを気化器からバーナまで供給する配管と、配管を230℃以上の加熱温度で加熱する加熱機構と、を備える。
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